公开(公告)号：CN1272770C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200410064089.4

申请日：2004-05-21

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 竹尾建治 ,  宫本宏之

IPC: G11B5/31

CPC classification number: G11B5/6005

Abstract: 在绝缘薄膜上形成一电镀底基层。在电镀底基层上形成抗反射膜。在抗反射膜上形成光刻胶。曝光和显影光刻胶和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蚀性组织。在由抗蚀性组织包围的内部图案中形成第二磁性层。抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。

公开(公告)号：CN1573938A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410064089.4

申请日：2004-05-21

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 竹尾建治 ,  宫本宏之

IPC: G11B5/31

CPC classification number: G11B5/6005

Abstract: 在绝缘薄膜上形成一电镀底基层。在电镀底基层上形成抗反射膜。在抗反射膜62上形成光刻胶光刻胶。曝光和显影光刻胶和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蚀性阻织。在由抗蚀性组织包围的内部图案中形成第二磁性层。抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。