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公开(公告)号：CN100388364C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200410007889.2
申请日：2004-03-03
Applicant: TDK株式会社
Inventor： 塚越拓哉
IPC: G11B7/0065 , G03H1/00
CPC classification number: G11B7/0065 , G03H1/0248 , G03H1/26 , G03H2001/0417 , G11B7/007 , G11B7/0938 , G11B7/24044 , G11B7/24062 , G11B7/2407
Abstract: 一种全息记录介质，包括至少一个记录层、一个反射表面。通过把信号射束和基准射束投射到记录层上，数据作为光的相位信息记录在该记录层；从信号射束和基准射束入射到全息记录介质的方向上看，反射表面位于记录层的相对侧，同时该反射表面带有梯形横截面的凸状结构或凹状结构，凸状结构的凸状表面或凹状结构的凹状表面设定成等于或大于在衍射极限的信号射束或基准射束的射束点直径。根据具有这样结构的全息记录介质，能容易去除包含在信号射束和基准射束内的噪音光。
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公开(公告)号：CN1783269A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510118516.7
申请日：2002-04-30
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 具有通过在信息记录层上形成树脂层后，使可透过活性能线的模子与树脂层表面接触，接着通过模子向树脂层照射活性能线，接着剥离下模子，形成复制了凹凸图形的透明中间层的工序，形成凹凸图形的表面至少是用由聚烯烃系树脂或氟树脂构成的模子，在信息记录区上形成透明中间层，透明中间层的最大厚度和最小厚度之差在10μm以下。
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公开(公告)号：CN1540458A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN200410034684.3
申请日：2004-04-23
Applicant: TDK株式会社
Inventor： 塚越拓哉
IPC: G03H1/22
CPC classification number: G11B7/0938 , G11B7/0065 , G11B7/00745 , G11B7/00781 , G11B7/083
Abstract: 一种用于在全息记录介质中记录数据的全息记录和再现方法和装置，该全息记录介质包括至少一记录层和一伺服层，沿信号光束入射到全息记录介质上的方向看，伺服层设置在记录层的反面，并且伺服层具有形成有伺服投影即光学调制图案的区域，该全息记录和再现方法包括如下步骤：设定信号光束的光路，以使信号光束投射到伺服层中除了形成有光学调制图案的区域之外的其他区域；设定一不同于信号光束光路的伺服光束的光路；以及沿由此设定的伺服光束的光路将伺服光束投射到伺服层中形成有伺服投影的区域中的一个上。
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公开(公告)号：CN1954271B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200580015295.9
申请日：2005-04-25
Applicant: TDK株式会社
IPC: G03H1/02 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/075 , G11B7/0065
CPC classification number: G11B7/24044 , G03F7/001 , G03F7/0042 , G03F7/0757 , G03H1/02 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/0065 , G11B7/245 , G11B7/249 , G11B7/2531
Abstract: 提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，所述全息照相记录材料不需要进行记录时的预曝光处理，实现高的折射率变化、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化及高多重性，适用于体积型全息照相记录。其全息照相记录材料包含软化温度为50℃以上的基体材料和在室温下为液相的光聚合性单体。相对全息照相记录材料整体，优选含有基 体材料50重量％以上90重量％以下。全息照相记录材料的软化温度优选为0℃以上。
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公开(公告)号：CN100377240C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200510118516.7
申请日：2002-04-30
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 具有通过在信息记录层上形成树脂层后，使可透过活性能线的模子与树脂层表面接触，接着通过模子向树脂层照射活性能线，接着剥离下模子，形成复制了凹凸图形的透明中间层的工序，形成凹凸图形的表面至少是用由聚烯烃系树脂或氟树脂构成的模子，在信息记录区上形成透明中间层，透明中间层的最大厚度和最小厚度之差在10μm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1570779A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN200410064043.2
申请日：2004-03-12
Applicant: TDK株式会社
Inventor： 塚越拓哉
CPC classification number: G03H1/26 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 一种全息记录和再现设备，包括一空间光调制器、一傅立叶变换透镜、一逆傅立叶变换透镜和一CCD图像传感器，全息记录介质设置在傅立叶变换透镜和逆傅立叶变换透镜之间，傅立叶变换透镜的焦距和逆傅立叶变换透镜的焦距彼此不同。依照本发明，提供一种全息记录和再现设备，在甚至应用如空间光调制器、CCD图像传感器等大尺寸和低分辨率的电子设备的情况下也可使其结构紧凑。
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公开(公告)号：CN1954272B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200580015347.2
申请日：2005-04-25
Applicant: TDK株式会社
IPC: G03H1/02 , G03F7/004 , G03F7/075 , G11B7/0065
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/001 , G03F7/0042 , G03H1/02 , G03H2001/0264 , G03H2250/37 , G03H2260/12 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/2492
Abstract: 提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，该全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化及高多重性，适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料，其包含有机金属化合物和光聚合性化合物，其中，所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且含有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元。所述至少2种金属中的1种是Si，Si以外的其他金属优选选自由Ti、Zr、Ge、Sn、Al及Zn构成的群组。所述有机金属单元优选2个芳香族基团直接键合在1个Si上。全息照相记录介质(11)，其具有全息照相记录材料层(21)。
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公开(公告)号：CN100399108C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200410031271.X
申请日：2004-03-26
Applicant: TDK株式会社
Inventor： 塚越拓哉
CPC classification number: G02F1/133509 , G02F2203/12 , G03H1/0465 , G03H1/0486 , G03H2225/31 , G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/1369 , G11B7/1398
Abstract: 空间光调制器(SLM)101具有多个以格子形式排列的象素101a，该空间光调制器用于选择每个象素上光线的透射状态(开启)和阻塞状态(关闭)，从而空间调制光强度。空间光调制器101全部象素的光透射率分布设置为光透射率在中心及其周围比较低，并随着离中心距离的增加而增加。
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公开(公告)号：CN1577182A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410049198.9
申请日：2004-06-25
Applicant: TDK株式会社
IPC: G03H1/26
CPC classification number: G03H1/0248 , G03H1/265 , G03H2001/266 , G03H2210/22 , G03H2222/31 , G03H2260/12 , G03H2260/54 , G11B7/1356 , G11C13/042
Abstract: 记录信息时，S偏振的信息光束入射到光信息记录介质。穿过光信息记录介质后，信息光束被反射装置反射并穿过偏振控制器。信息光束在过程中经历S偏振控制并变成P偏振方向。信息光束与入射到光信息记录介质表面上的P偏振记录参考光束在光信息记录介质内干涉并形成干涉图案。再生信息时，再生参考光束入射到光信息记录介质表面。再生参考光束然后受到由形成于光信息记录介质上的干涉图案导致的折射率光栅的衍射并形成再生光束。再生光束从光信息记录介质的表面发出并入射到光接收元件。然后再生原始数据。
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