公开(公告)号：CN100579727C

公开(公告)日：2010-01-13

申请号：CN200410043041.5

申请日：2004-04-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 樱井富士夫 ,  三原严 ,  五十岚善则 ,  长谷川亨

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24D18/00 ,  B24B37/24 ,  B24D3/342

Abstract: 本发明提供一种抛光垫和一种生产该抛光垫的方法，该抛光垫在抛光过程中甚至在磨光后，显示出优异的抛光稳定性和优异的浆液保持性，能够有效地防止抛光速率的减少，并且对于待抛光基质来说，也具有优异的压平性能。该方法包含将水溶性微粒如β-环糊精分散到交联剂如聚丙烯乙二醇中，以获得分散体，将分散体与多异氰酸酯如4，4‘-二苯基甲烷二异氰酸酯和/或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，使混合溶液反应，以获得具有水溶性微粒分散在聚合物基质中的抛光垫。

公开(公告)号：CN1760240A

公开(公告)日：2006-04-19

申请号：CN200510119986.5

申请日：2005-10-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 樱井富士夫 ,  河村知男 ,  五十岚善则

IPC: C08J5/14 ,  C08L75/04 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B7/04 ,  B24B29/00 ,  B24B37/04 ,  B24D3/002 ,  B24D3/34

Abstract: 一种具有抛光层的抛光垫，该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2－15，在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4－20，其由聚氨酯或聚氨酯－脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。

公开(公告)号：CN1760240B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200510119986.5

申请日：2005-10-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 樱井富士夫 ,  河村知男 ,  五十岚善则

IPC: C08J5/14 ,  C08L75/04 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B7/04 ,  B24B29/00 ,  B24B37/04 ,  B24D3/002 ,  B24D3/34

Abstract: 一种具有抛光层的抛光垫，该抛光层具有特定的组成并且在30℃的储存弹性模量与在60℃的储存弹性模量的比为2-15，在30℃的储存弹性模量与在90℃的储存弹性模量的比为4-20，其由聚氨酯或聚氨酯-脲制成。该抛光垫抑制了对被抛光的表面的刮擦并且有效地将表面平面化。具有含有水溶性颗粒的抛光层的抛光垫可以实现较高的去除速率。

公开(公告)号：CN1539598A

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：CN200410043041.5

申请日：2004-04-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 樱井富士夫 ,  三原严 ,  五十岚善则 ,  长谷川亨

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24D18/00 ,  B24B37/24 ,  B24D3/342

Abstract: 本发明提供一种抛光垫和一种生产该抛光垫的方法，该抛光垫在抛光过程中甚至在磨光后，显示出优异的抛光稳定性和优异的浆液保持性，能够有效地防止抛光速率的减少，并且对于待抛光基质来说，也具有优异的压平性能。该方法包含将水溶性微粒如β－环糊精分散到交联剂如聚丙烯乙二醇中，以获得分散体，将分散体与多异氰酸酯如4，4‘－二苯基甲烷二异氰酸酯和或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，使混合溶液反应，以获得具有水溶性微粒分散在聚合物基质中的抛光垫。