声学膜阵列的优化
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114342417A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080060498.4

    申请日:2020-08-27

    Abstract: 一种声学装置(100),该声学装置包括形成在箔(10)上的声学膜(1,2,3,4)的阵列。声学膜(1,2,3,4)中的每一个被配置为在声学膜(1,2,3,4)的谐振频率(Fr)下进行振动,以产生相应的声波(W1,W2,W3,W4)。相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)被确定,在该相对相位处,声学膜(1,2,4,5)被致动以在声波(W1,W2,W3,W4)之间生成预定的干涉图案(C)。兰姆波(Ws)的兰姆波长(λs)被确定,该兰姆波在谐振频率(Fr)下穿过邻近声学膜(1,2;3,4)之间的箔(10)的中间部分(10i,10j)。布局中的邻近声学膜(1,2;3,4)之间的中间部分(10i,10j)的距离(X12,X34)是根据相对相位(ΔΦ12,ΔΦ34)和兰姆波长(λs)来确定的,以使得通过声学膜(1,3)产生的兰姆波(Ws)与邻近的声学膜(2,4)同相到达。

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