一种超级电容器及其制作方法

    公开(公告)号:CN114464469B

    公开(公告)日:2025-04-22

    申请号:CN202011245588.9

    申请日:2020-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种超级电容器的制作方法,该方法包括:提供两个电极,电极为自支撑金属网栅或衬底支撑金属网栅;在两个电极上沉积相同或不同的活性材料,活性材料至少覆盖电极一侧的表面;将两个沉积有活性材料的电极浸入凝胶电解质中;将两个浸入凝胶电解质中的电极取出并贴合在一起形成三明治结构;固化后,得到超级电容器。本发明还公开了一种超级电容器,包括两个电极、设置在两个电极之间的凝胶电解质,两个电极上沉积有相同或不同的活性材料,其中,活性材料至少覆盖电极一侧的表面,电极为自支撑金属网栅或衬底支撑金属网栅。通过上述方法制作的超级电容器柔性好,透光率高,可贴附于任意复杂结构,且制作过程简单,可控制性强,容易实现。

    衍射光波导及显示模组
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119738907A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202311278580.6

    申请日:2023-09-29

    Abstract: 本发明涉及一种衍射光波导及显示模组。衍射光波导包括波导基底,波导基底包括耦入区域、转折区域和耦出区域;自耦入区域向转折区域的方向为第一方向,转折区域包括沿第一方向依次设置的至少两个转折块,且至少两个转折块的效率调制功能沿第一方向呈递进趋势;自转折区域向耦出区域的方向为第二方向,第二方向与第一方向垂直;耦出区域包括沿第二方向依次设置的至少两个耦出块,且至少两个耦出块的效率调制功能沿第二方向呈递进趋势。应用本发明的衍射光波导,能够通过分别对转折区域和耦出区域进行效率分区,从而合理分配单位面积的衍射能量,均衡耦出区域内不同位置的衍射效率,从而提升眼盒范围内不同观察图像亮度均匀性,有利于广泛应用。

    偏光膜及其制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119224906A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202310789526.1

    申请日:2023-06-29

    Abstract: 本发明提供一种偏光膜的制备方法,包括:S1,提供一平整基板;S2,制备液晶聚合物与金属纳米棒液体混合的材料体系;S3,采用光控液晶配向技术对基板进行均一液晶配向;S4,将材料体系涂布至基板上;S5,利用UV灯光照射将基板进行固化,使液晶分子相互交联从而形成一层薄膜。本发明还提供一种偏光膜,偏光膜是通过如上述的偏光膜的制备方法而得到的。在本发明的偏光膜及其制备方法中,通过使用金属纳米材料制备偏光膜,其相比于碘分子,制成的偏光膜厚度更小,耐高温高湿能力更强;相比于二向色性染料,导电性更好,偏光性更强。有效地解决了厚度与偏光度、透过率的兼容问题。

    衍射光波导、显示模组及其制备方法

    公开(公告)号:CN118818765A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202310413830.6

    申请日:2023-04-18

    Abstract: 本发明公开了一种衍射光波导、显示模组及其制备方法,衍射光波导包括顺次设置的耦入区域和耦出区域;耦入区域和耦出区域均被配置为具备光线衍射功能的微纳结构;耦出区域包括N个相邻设置的分区,每个分区内的微纳结构设计参数不同,每个分区的耦出效率和向下传导率不同,保证每个分区的耦出传导效率不低于初始耦出效率与初始耦出效率阈值ε的积,从而保证光线耦出亮度的一致性。本发明显示模组包括衍射光波导和光机模组,光机模组采用横置设计,能满足大出瞳设计要求,设计形态贴合衍射光波导,实现超紧凑模组集成。本发明还公开了衍射光波导的制备方法,使得制备的衍射光波导的光线耦出亮度一致性高。

    导光板及背光模组
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110275240B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN201810215515.1

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种导光板及背光模组,包括侧面、底面、与所述底面相对的顶面以及形成在所述底面上的多个凹陷网点,所述侧面为入光面,所述顶面为出光面,每个凹陷网点为从所述底面朝向所述顶面凹陷形成的C型凹槽、环形凹槽或球形凹坑,每个凹陷网点具有靠近光源的前端和远离光源的后端,每个凹陷网点的凹陷深度从所述前端至所述后端的方向上逐渐增加。

    偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置

    公开(公告)号:CN117826303A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202211181334.4

    申请日:2022-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。偏振薄膜包括:透明基底;光栅层,位于透明基底上,光栅层包括沿平行于透明基底表面的方向周期性间隔设置的介质光栅和金属层,介质光栅和金属层的厚度相同;以及保护层,覆盖光栅层。本发明提供了一种新型结构的偏振薄膜,通过对光栅层和保护层的结构进行上述优化设计,能够兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能,有利于广泛应用。此外,本发明还涉及一种上述偏振薄膜的制作方法以及包括上述偏振薄膜的光波导镜片及显示装置。

    一种用于偏振干涉光刻的光路结构及偏振干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN117666292A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202211462987.X

    申请日:2022-11-22

    Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统,所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件;所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束;所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件,两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转,所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面;所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制,使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光,进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统,通过控制分光组件和偏振组件,能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量,与偏振感光材料进行光化学作用,形成特定的偏振图形分布,偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件,控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位,进行光场拼接光刻,在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。

    一种全偏振感知器件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117387765A

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN202210783208.X

    申请日:2022-07-05

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种全偏振感知器件,包括传感器,在所述传感器表面覆盖有相位延迟层和偏振检测层,所述传感器设置有多个区域,所述多个区域具有与所述相位延迟层和偏振检测层一一对应结合的多个像素,所述传感器不同区域的像素用于采集不同角度线偏振和不同旋性圆偏振信息,以实现全偏振感知;所述传感器为CCD或COMS传感器。其中相位延迟层和图案化液晶聚合物层、偏振检测层为掺杂有二向色性染料的图案化液晶聚合物层。

    曝光系统及曝光装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115685686A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202110844841.0

    申请日:2021-07-26

    Abstract: 本发明涉及的曝光系统,用以在工件上曝光三维结构,曝光系统沿激光束前进方向依次设置有发射激光束的激光器、用以对激光束的光斑进行变倍扩束的扩束镜、限制激光束的光阑、偏转激光束方向的振镜、以及保证激光束垂直出射的场镜组,振镜包括用以反射激光束的反射片,反射片可旋转以扩大激光束出射的范围,激光束出射的范围为3mm*3mm‑15mm*15mm,曝光系统在光阑作用下,能够在工件上形成三维结构,振镜中的反射片能够可旋转以扩大激光束出射的范围,使得工件和曝光系统在不发生相对移动的情况下,就能曝光多个单元,大大地提高了曝光速率和工件加工效率。

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