抗反射膜和曝光方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100485532C

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200610148672.2

    申请日:2006-09-06

    Abstract: 在抗蚀剂层和形成在硅衬底表面上的氧化硅层之间提供抗反射膜,用于在具有190nm到195nm波长和0.93到1.2数值孔径NA的曝光系统中曝光抗蚀剂层。假设组成抗反射膜的上层和下层的复折射率分别是N1(=n1-k1i)和N2(=n2-k2i),并且两层的厚度为d1和d2,则当选择[n10、k10、d10、n20、k20、d20]的值的预定组合时,n1、k1、d1、n2、k2、和d2满足关系式{(n1-n10)/(n1m-n10)}2+{(k1-k10)/(k1m-k10)}2+{(d1-d10)/(d1m-d10)}2+{(n2-n20)/(n2m-n20)}2+{(k2-k20)/(k2m-k20)}2+{(d2-d20)/(d2m-d20)}2≤1。

    抗反射膜和曝光方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1828419A

    公开(公告)日:2006-09-06

    申请号:CN200610073937.7

    申请日:2006-02-28

    CPC classification number: G03F7/091 G03F7/70341

    Abstract: 一种抗反射膜,其中,在浸液式平版印刷技术中,即使在曝光光线倾斜进入的地方,也能够在抗蚀剂层和硅衬底之间的界面处获得充分降低的反射率。两层抗反射膜用在通过波长为190-195nm并且数值孔径为1.0或更小的曝光系统的曝光中,并且形成于抗蚀剂层与硅衬底之间。抗反射膜的上层和下层的复折射率N1和N2以及膜厚度分别是由n1-k1i,n2-k2i和d1,d2表示的,并且选择值[n10,k10,d10,n20,k20,d20]的预定组合,n1,k1,d1,n2,k2和d2满足{(n1-n10)/(n1m-n10)}2+{(k1-k10)/(k1m-k10)}2+{(d1-d10)/(d1m-d10)}2+{(n2-n20)/(n2m-n20)}2+{(k2-k20)/(k2m-k20)}2+{(d2-d20)/(d2m-d20)}2≤1。

    抗反射膜和曝光方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1952788A

    公开(公告)日:2007-04-25

    申请号:CN200610148672.2

    申请日:2006-09-06

    Abstract: 在抗蚀剂层和形成在硅衬底表面上的氧化硅层之间提供抗反射膜,用于在具有190nm到195nm波长和0.93到1.2数值孔径NA的曝光系统中曝光抗蚀剂层。假设组成抗反射膜的上层和下层的复折射率分别是N1(=n1-k1i)和N2(=n2-k2i),并且两层的厚度为d1和d2,则当选择[n10、k10、d10、n20、k20、d20]的值的预定组合时,n1、k1、d1、n2、k2、和d2满足关系式{(n1-n10)/(n1m-n10)}2+{(k1-k10)/(k1m-k10)}2+{(d1-d10)/(d1m-d10)}2+{(n2-n20)/(n2m-n20)}2+{(k2-k20)/ (k2m-k20)}2+{(d2-d20)/(d2m-d20)}2≤1。

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