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公开(公告)号：CN116353206A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202211674340.3
申请日：2022-12-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01 , B41J29/393
Abstract: 本发明提供记录系统及记录系统的控制方法，通过维护动作能够在不降低记录质量的情况下提高处理速度。在以盖从维护位置向分离位置的位移为基准而测量的时间超过了规定时间时，能够通过液体的喷出来执行维护动作。在记录作业中的记录动作开始前，使第一张介质在液体喷头的上游的介质能够待机的待机位置待机。盖在记录作业中的第一张介质在待机位置待机时位于分离位置。在初始控制期间，能够在维护动作的同时执行对比第一张数少的第二张数的介质的后处理动作，在初始控制期间结束后，能够在维护动作的同时执行对第一张数的介质的后处理动作。
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公开(公告)号：CN115022478B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202210207154.2
申请日：2022-03-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供介质积载装置及图像形成系统。介质积载装置具备侧端对齐部件和控制部，侧端对齐部件在排出介质时位于待机位置，然后对介质的侧端进行对齐。控制部在基于第一信息的值为阈值以上时，将在宽度方向上与本次排出的介质重叠的第一位置确定为待机位置，在基于第一信息的值小于阈值时，将在宽度方向上不与本次排出的介质重叠的第二位置确定为待机位置，该第一信息是与本次排出的介质及上次排出的介质中的至少一方的介质的记录浓度相关的信息，控制部根据与截止本次排出为止被记录的介质中的至少一个介质相关的第二信息调整阈值。
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公开(公告)号：CN112573274A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011050676.3
申请日：2020-09-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B65H31/00
Abstract: 本发明涉及处理装置、处理装置的控制方法以及记录系统，减小因印刷或输送而产生的介质的卷曲，能够实现介质的良好的输送、排纸和装载。本发明的处理装置(4)具有：介质支承部(50)，具有支承介质(P)的至少前端部(53)的支承面(50a)；对齐部(38)，对介质(P)进行对齐；可升降的装载部(37)，设置于介质支承部的铅直方向(Z)的下方，具有装载从介质支承部下落的介质(P)的装载面(37a)；以及按压部(51)，具有与支承面相对的按压面(51a)，按压面能够在第一位置(Q1)和比第一位置更靠近支承面的第二位置(Q2)之间移动，按压部构成为在向介质支承部输送介质(P)时配置于第一位置，在对齐部进行对齐后配置于第二位置。
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公开(公告)号：CN111377290A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911348156.8
申请日：2019-12-24
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 内堀宪治
Abstract: 本发明提供介质装载装置及其控制方法、以及介质处理装置，能够提高对齐后朝向装载部排出的介质的对齐性。介质装载装置具备：中间装载部，接受并容纳通过处理部处理后排出的介质；接触部，能够在对所述中间装载部上的所述介质进行对齐动作的第一位置与相比所述第一位置距离所述介质的前端更远的第二位置之间移动；以及装载部，装载从所述中间装载部输送来的所述介质，从所述中间装载部输送来的所述介质在所述前端与位于所述第二位置的所述接触部接触之后，被装载于所述装载部。
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公开(公告)号：CN112573274B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202011050676.3
申请日：2020-09-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B65H31/00
Abstract: 本发明涉及处理装置、处理装置的控制方法以及记录系统，减小因印刷或输送而产生的介质的卷曲，能够实现介质的良好的输送、排纸和装载。本发明的处理装置(4)具有：介质支承部(50)，具有支承介质(P)的至少前端部(53)的支承面(50a)；对齐部(38)，对介质(P)进行对齐；可升降的装载部(37)，设置于介质支承部的铅直方向(Z)的下方，具有装载从介质支承部下落的介质(P)的装载面(37a)；以及按压部(51)，具有与支承面相对的按压面(51a)，按压面能够在第一位置(Q1)和比第一位置更靠近支承面的第二位置(Q2)之间移动，按压部构成为在向介质支承部输送介质(P)时配置于第一位置，在对齐部进行对齐后配置于第二位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112010083B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202010470270.4
申请日：2020-05-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置具备：第一托盘，具有第一介质接收面；第二托盘，具有接收从第一托盘排出的介质的第二介质接收面；排出构件，将配置于第一托盘的介质向第二托盘排出；以及下压部，在介质排出方向上位于比第一介质接收面的下游端更下游的位置，并且在与介质排出方向交叉的方向即宽度方向上位于远离排出构件的位置，所述下压部将被排出的介质中的在介质排出方向的上游端的所述宽度方向上的一部分下压。
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公开(公告)号：CN109304949B
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201810825177.3
申请日：2018-07-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本申请公开了一种记录装置，在具备载置部和接收部的结构中，能够增加接收部中的介质的累积载置量，包括：载置部，载置记录前的介质；记录部，在从载置部供给的介质上记录；排出口，将被记录的介质排出；接收部，配置在载置部的上方，接收从排出口排出的介质。载置部和接收部在铅直方向上重合，接收部使排出口至接收部的铅直方向的距离变化而移动，移动至使第二距离比第一距离更长的位置，第一距离为接收的介质的累积载置高度处于第一累积载置高度时的所述距离，第二距离为接收的介质的累积载置高度处于比第一累积载置高度高的第二累积载置高度时的所述距离，接收部包括退避部，在接收部下降至下限的期间，载置部的一部分进入退避部。
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公开(公告)号：CN116534618A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310119195.0
申请日：2023-01-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B65H1/04
Abstract: 本发明提供片材输送装置及片材输送装置的控制方法。在片材(S)的装载张数少的状态与多的状态之间，输送部(22)的输送力会发生改变。因此，有时会发生片材输送不良。一种片材输送装置(1)，具备：装载部(7)，传送来的片材(S)装载于装载部(7)；输送部(22)，对装载于装载部(7)的片材装载面(21)的片材(S)赋予朝向整合部(9)输送的输送力(P2)；以及调整部(23)，调整输送力(P2)，调整部(23)具有：可动装载部(24)，形成为使片材装载面(21)的至少一部分能够朝向输送部(22)突出；以及驱动部(25)，使可动装载部(24)向突出的方向和退避的方向位移。
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公开(公告)号：CN111377290B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201911348156.8
申请日：2019-12-24
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 内堀宪治
Abstract: 本发明提供介质装载装置及其控制方法、以及介质处理装置，能够提高对齐后朝向装载部排出的介质的对齐性。介质装载装置具备：中间装载部，接受并容纳通过处理部处理后排出的介质；接触部，能够在对所述中间装载部上的所述介质进行对齐动作的第一位置与相比所述第一位置距离所述介质的前端更远的第二位置之间移动；以及装载部，装载从所述中间装载部输送来的所述介质，从所述中间装载部输送来的所述介质在所述前端与位于所述第二位置的所述接触部接触之后，被装载于所述装载部。
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公开(公告)号：CN112010083A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010470270.4
申请日：2020-05-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 一种介质排出装置、介质处理装置以及记录系统。介质排出装置具备：第一托盘，具有第一介质接收面；第二托盘，具有接收从第一托盘排出的介质的第二介质接收面；排出构件，将配置于第一托盘的介质向第二托盘排出；以及下压部，在介质排出方向上位于比第一介质接收面的下游端更下游的位置，并且在与介质排出方向交叉的方向即宽度方向上位于远离排出构件的位置，所述下压部将被排出的介质中的在介质排出方向的上游端的所述宽度方向上的一部分下压。
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