显示装置及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN105278202A

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:CN201510349112.2

    申请日:2015-06-23

    Inventor: 中岛嘉树

    Abstract: 本发明提供能够通过防止气泡进入而获得良好的显示质量的显示装置及显示装置的制造方法。本发明的显示装置的特征在于,具有:电路基板,包括显示部及设置于显示部外围的外围电路部;显示片层;粘接层,将显示片粘贴在电路基板上;以及对向电极,设置于显示片上,在对向电极与像素电极之间可以向该显示片施加电压,在该显示装置中,电路基板的由粘接层贴合的面具有凹凸结构,凹凸结构包括凹部及凸部,在俯视观察状态下,凹凸结构形成至外围电路部的外边缘。

    纤维素的糖化方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116574772A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310095347.8

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本发明提供一种难以产生由原料中的填料所引起的糖化反应液的发泡的纤维素的糖化方法。所述纤维素的糖化方法具备:粉碎工序,对包含纤维素以及填料的原料进行粉碎;分级工序,将所述原料在空气中进行分级,并对所述纤维素和所述填料进行分级;糖化工序,通过将在所述分级工序中被分级出的所述纤维素、和糖化反应液导入糖化槽中,并利用所述糖化反应液中所包含的酶而对所述纤维素进行分解,从而使糖化反应进行。

    纤维素的糖化方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116574773A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310125308.8

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本发明提供一种难以产生由原料中的木质素或沥青等的油性成分杂质所导致的酶反应的阻碍并且易于将糖化槽内维持清洁的纤维素的糖化方法。所述纤维素的糖化方法包括:向糖化槽中导入包含纤维素的原料、和反应液的工序;向所述糖化槽内的所述反应液中导入酶的工序;在所述反应液的液面上配置吸附薄片的工序;通过对所述反应液进行搅拌并利用所述酶来分解所述纤维素从而生成糖的工序,所述吸附薄片在所述生成糖的工序中,对从所述原料中游离到所述反应液的液面上的油性成分进行吸附。

    纤维素的糖化方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117126899A

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202310594400.9

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本发明提供一种具有优异的糖化反应效率的纤维素的糖化方法。本发明的一个实施方式所涉及的纤维素的糖化方法,其具备:投入工序,在所述投入工序中,将水、包含纤维素的原料、和酵素从投入部投入到糖化槽内,从而得到混合液;搅拌工序,在所述搅拌工序中,对所述混合液进行搅拌,从而使糖化反应进行;检测工序,所述检测工序在所述搅拌工序中,通过检测部而对所述混合液的液体中所包含的所述酵素的浓度进行检测,在所述检测工序中,在确认了所述酵素的浓度从所述搅拌工序的开始时间点上的所述酵素的浓度起发生了下降后又上升了的情况之后,从所述投入部以追加的方式将包含所述纤维素的原料投入到所述混合液中。

    纤维素的糖化方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116804213A

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202310288972.4

    申请日:2023-03-22

    Abstract: 本发明提供一种不易产生由表面活性剂所引起的糖化反应的阻碍的纤维素的糖化方法。纤维素的糖化方法具备:投入工序,将水、包含纤维素的原料、以及表面活性剂投入至糖化槽内而获得混合液;搅拌工序,通过叶片部的旋转而对所述混合液进行搅拌;检测工序,对所述叶片部所检测出的转矩进行检测,在所述搅拌工序中,在到单位时间内的所述转矩的变化量成为固定值以下为止而进行了搅拌之后,在所述转矩为阈值以上的情况下以追加的方式而向所述混合液中投入表面活性剂,而在所述转矩小于所述阈值的情况下向所述混合液中投入pH调节剂和酶。

    感光膜的设置方法、半导体装置的制造方法及电子设备

    公开(公告)号:CN104977819A

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201510174089.8

    申请日:2015-04-13

    Abstract: 本发明涉及感光膜的设置方法、半导体装置的制造方法及电子设备。提供形状精度高地设置膜厚薄的区域的抗蚀膜的方法。该感光膜的设置方法具有:在基板主体(10)上设置光致抗蚀膜(15),使用光透过率为3灰度以上的半色调掩膜(30)进行曝光,使光致抗蚀膜(15)显影的工序,显影后的光致抗蚀膜(15)具有第一光致抗蚀膜(16)和比第一光致抗蚀膜(16)厚的第二光致抗蚀膜(17),在显影后的基板主体(10)上,在不除去光致抗蚀膜(15)而可以设置第二光致抗蚀膜(17)的位置设置第二光致抗蚀膜(17)。

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