-
公开(公告)号:CN1098373C
公开(公告)日:2003-01-08
申请号:CN96102422.4
申请日:1996-02-15
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 第一工业制药株式会社
IPC: C23G5/032
Abstract: 提供将选自焊药和热融粘合剂之除去对象物从被洗净物上除去的洗净方法。该方法包括用实质上由所定的乙二醇醚成分和所定的链烷系碳氢化合物成分组成的洗净液对该被洗净物进行洗净的步骤。
-
公开(公告)号:CN1234827C
公开(公告)日:2006-01-04
申请号:CN02131852.2
申请日:2002-09-06
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: C10M173/02
CPC classification number: C10M173/02 , B24C11/00 , B28D5/007 , C10M2205/04 , C10M2205/043 , C10M2207/022 , C10M2207/126 , C10M2207/127 , C10M2207/141 , C10M2209/084 , C10M2209/0845 , C10M2209/086 , C10M2209/0863 , C10N2210/01 , C10N2220/021 , C10N2220/142 , C10N2230/04 , C10N2240/00 , Y02P70/179
Abstract: 本发明提供一种磨料分散性良好、用于硬脆材料的加工时也没有易燃性问题、容易用水洗涤、在油系设备中使用也可以发挥防锈性的非易燃性水系切削液组合物。还提供一种非易燃性水系切削液组合物,其中,除含有重均分子量1,000-200,000的聚羧酸系高分子化合物及/或其盐以外,根据防锈性的需要,还含有羧酸及/或其盐。
-
公开(公告)号:CN1405287A
公开(公告)日:2003-03-26
申请号:CN02131852.2
申请日:2002-09-06
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: C10M173/00
CPC classification number: C10M173/02 , B24C11/00 , B28D5/007 , C10M2205/04 , C10M2205/043 , C10M2207/022 , C10M2207/126 , C10M2207/127 , C10M2207/141 , C10M2209/084 , C10M2209/0845 , C10M2209/086 , C10M2209/0863 , C10N2210/01 , C10N2220/021 , C10N2220/142 , C10N2230/04 , C10N2240/00 , Y02P70/179
Abstract: 本发明提供一种磨料分散性良好、用于硬脆材料的加工时也没有易燃性问题、容易用水洗涤、在油系设备中使用也可以发挥防锈性的非易燃性水系切削液组合物。还提供一种非易燃性水系切削液组合物,其中,除含有重均分子量1,000-200,000的聚羧酸系高分子化合物及/或其盐以外,根据防锈性的需要,还含有羧酸及/或其盐。
-
公开(公告)号:CN107530917A
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201680028130.3
申请日:2016-01-18
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62 , C08L71/02 , C10M107/34 , C10M145/26 , C10N20/04 , C10N30/00 , C10N40/36
Abstract: 本发明提供硫化后的橡胶与模具的脱模性优异且制造后容易将脱模剂除去的硫化橡胶成型用脱模剂。一种硫化橡胶成型用脱模剂,其含有聚氧亚烷基甘油醚(A),上述聚氧亚烷基甘油醚(A)在氧亚烷基100质量份中含有50~95质量份氧亚乙基。上述聚氧亚烷基甘油醚(A)的数均分子量优选为2000~20000。
-
公开(公告)号:CN1135394A
公开(公告)日:1996-11-13
申请号:CN96102422.4
申请日:1996-02-15
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 第一工业制药株式会社
Abstract: 提供将选自焊药和热融粘合剂之除去对象物从被洗净物上除去的洗净方法。该方法包括用实质上由所定的乙二醇醚成分和所定的链烷系碳氢化合物成分组成的洗净液对该被洗净物进行洗净的步骤。
-
公开(公告)号:CN111278619A
公开(公告)日:2020-06-12
申请号:CN201880070854.3
申请日:2018-10-22
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62
Abstract: 本发明提供脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有:胺化合物的环氧烷加成物(A),对分子内具有4~8个活性氢原子的胺化合物加成环氧烷而成;以及表面活性剂(B)。
-
公开(公告)号:CN109153154A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201780029731.0
申请日:2017-04-26
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62
Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有胺化合物的环氧烷加成物(A),所述胺化合物在分子内有4~8个活性氢原子,所述胺化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。
-
公开(公告)号:CN109153153A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201780029667.6
申请日:2017-04-26
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62
Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有含活性氢基团的化合物的环氧烷加成物(A),所述含活性氢基团的化合物在分子内有4个活性氢原子,所述含活性氢基团的化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。
-
公开(公告)号:CN104094411A
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:CN201380008345.5
申请日:2013-02-06
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: H01L31/0236
CPC classification number: C09K13/02 , C09K13/04 , H01L31/02363 , Y02E10/50
Abstract: 在本发明中,通过使用蚀刻液能够在晶片表面上均匀地形成稳定的良好纹理,该蚀刻液包含一水溶液,该水溶液含有(A)碱性组分和(B)膦酸衍生物或其盐。本发明提供一种用于在硅晶片上形成纹理的蚀刻液,该蚀刻液适用于利用松散磨粒系统的晶片切割的晶片和利用固定磨粒系统切割的晶片,并且在60℃至95℃的加工温度范围内添加剂组分不蒸发。
-
公开(公告)号:CN109153154B
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN201780029731.0
申请日:2017-04-26
Applicant: 第一工业制药株式会社
IPC: B29C33/62
Abstract: 提供一种脱模性和清洗性优异的硫化橡胶成形用脱模剂。本实施方式涉及的硫化橡胶成形用脱模剂含有胺化合物的环氧烷加成物(A),所述胺化合物在分子内有4~8个活性氢原子,所述胺化合物的环氧烷加成物(A)的数均分子量为5000~30000,并且,含有50~95质量%的氧亚乙基。
-
-
-
-
-
-
-
-
-