低轮廓获取电极组件及离子植入机

    公开(公告)号:CN108352285B

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201680066016.X

    申请日:2016-09-23

    Abstract: 一种低轮廓获取电极组件及离子植入机,所述低轮廓获取电极组件包括:绝缘体,具有主体;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的第一面延伸;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的与所述第一面相对的第二面延伸,从所述第二面延伸的所述多个间隔开的安装支脚在与所述主体的轴线正交的方向相对于从所述第一面延伸的所述多个间隔开的安装支脚偏置,所述低轮廓获取电极组件还包括:接地电极,紧固至从所述第一面延伸的所述安装支脚;以及抑制电极,紧固至从所述第二面延伸的所述安装支脚,其中所述接地电极与所述抑制电极之间的放电路径距离大于所述接地电极与所述抑制电极之间的焦距。

    低轮廓获取电极组件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108352285A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680066016.X

    申请日:2016-09-23

    Abstract: 一种低轮廓获取电极组件包括:绝缘体,具有主体;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的第一面延伸;多个间隔开的安装支脚,从所述主体的与所述第一面相对的第二面延伸,从所述第二面延伸的所述多个间隔开的安装支脚在与所述主体的轴线正交的方向相对于从所述第一面延伸的所述多个间隔开的安装支脚偏置,所述低轮廓获取电极组件还包括:接地电极,紧固至从所述第一面延伸的所述安装支脚;以及抑制电极,紧固至从所述第二面延伸的所述安装支脚,其中所述接地电极与所述抑制电极之间的放电路径距离大于所述接地电极与所述抑制电极之间的焦距。

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