公开(公告)号：CN111052319B

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN201880054020.3

申请日：2018-10-19

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  金忠完 ,  章盛晧 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01J37/32

Abstract: 本说明书提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述等离子体蚀刻方法包括：将在其上表面上具有网部分的法拉第笼设置在等离子体蚀刻装置中的步骤；将石英基板设置在法拉第笼内部的步骤，所述石英基板在其一个表面上具有金属掩模，所述金属掩模中具有开口；以及其中使用等离子体蚀刻对石英基板进行蚀刻的图案化步骤。其中，法拉第笼的底表面包含具有比金属掩模更低的电离倾向的金属。

公开(公告)号：CN110452405B

公开(公告)日：2022-07-22

申请号：CN201910592053.X

申请日：2013-05-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 姜俊求 ,  张影来 ,  洪性敦 ,  郑顺和 ,  许殷奎

IPC: C08J7/046 ,  C09D4/02 ,  C09D4/06 ,  C09D7/61 ,  C09D7/48 ,  C09D175/14

Abstract: 本发明涉及一种用于制备硬涂膜的方法，更具体而言，涉及一种用于制备高硬度的硬涂膜的方法。用于制备本发明的硬涂膜的方法有利于制备具有低的卷曲发生率和高硬度的硬涂膜。

公开(公告)号：CN111033326B

公开(公告)日：2021-07-13

申请号：CN201880052163.0

申请日：2018-08-01

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴正岵 ,  辛富建 ,  许殷奎 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: G02B5/18

Abstract: 本发明的示例性实施方案提供了制造具有多个图案区域的模块的方法、根据该方法的具有多个图案区域的模块、以及制造衍射光栅模块或衍射光栅模块用模具的方法。

公开(公告)号：CN112889134A

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201980053527.1

申请日：2019-11-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  朴正岵 ,  朴圣珉 ,  韩尚澈 ,  辛富建

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213

Abstract: 本发明提供了一种使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法，通过该等离子体蚀刻方法能够有效地产生具有火焰形状的图案部。使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括以下步骤：通过在蚀刻基板的一个表面上执行第一等离子体蚀刻，以在通过金属掩模暴露的蚀刻基板的一个表面的部分区域上形成第一图案部；以及去除金属掩模，以使蚀刻基板的该一个表面相对于法拉第笼的底表面倾斜的同时将蚀刻基板的该一个表面放置于包括在其上表面上形成的网状部的法拉第笼中；以及进行第二等离子体蚀刻以将第一图案部形成为具有火焰形状的第二图案部。

公开(公告)号：CN111065942A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201880054388.X

申请日：2018-10-23

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 尹晶焕 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  许殷奎 ,  秋素英

IPC: G02B5/18 ,  F21V8/00

Abstract: 本发明的示例性实施方案提供了衍射导光板，包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。

公开(公告)号：CN111052319A

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201880054020.3

申请日：2018-10-19

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  金忠完 ,  章盛晧 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01J37/32

Abstract: 本说明书提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述等离子体蚀刻方法包括：将在其上表面上具有网部分的法拉第笼设置在等离子体蚀刻装置中的步骤；将石英基板设置在法拉第笼内部的步骤，所述石英基板在其一个表面上具有金属掩模，所述金属掩模中具有开口；以及其中使用等离子体蚀刻对石英基板进行蚀刻的图案化步骤。其中，法拉第笼的底表面包含具有比金属掩模更低的电离倾向的金属。

公开(公告)号：CN104755540A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201380055309.4

申请日：2013-07-29

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 姜俊求 ,  张影来 ,  洪性敦 ,  郑顺和 ,  许殷奎

IPC: C08J5/18 ,  C08J7/04 ,  C08L51/08 ,  C08K3/00

CPC classification number: C09D135/02 ,  C08J7/042 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2433/06 ,  C08K3/36 ,  C08K2201/011 ,  C08L51/08 ,  C09D4/06 ,  C09D183/06 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24967

Abstract: 本发明涉及一种硬涂膜，更具体地涉及一种具有高硬度和优良特性的硬涂膜。根据本发明的硬涂膜显示出优异的高硬度、耐刮性、高透明性、耐久性、耐光性、透光性等物理特性，因此可应用于各种领域。

公开(公告)号：CN104755539A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201380055015.1

申请日：2013-07-29

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 姜俊求 ,  张影来 ,  洪性敦 ,  郑顺和 ,  许殷奎

IPC: C08J5/18 ,  C08J7/04 ,  C08L51/08 ,  C08K3/00

CPC classification number: C09D143/04 ,  B32B27/36 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04 ,  C08J2351/08 ,  C09D4/06 ,  C09D133/08 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24967

Abstract: 本发明涉及一种硬涂膜，更具体而言，涉及一种甚至在不包括基板下也显示出高硬度和优异性能的硬涂膜。根据本发明的硬涂膜显示出优异的硬度、耐刮擦性、高透明度、耐久性、耐光性和透光率，因此可用于多个领域。

公开(公告)号：CN111587171B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN201980007555.X

申请日：2019-06-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许殷奎 ,  章盛皓 ,  金忠完 ,  辛富建 ,  朴正岵 ,  尹晶焕 ,  秋素英

IPC: B29C33/38 ,  B29D11/00 ,  F21V8/00 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明涉及通过使用两种掩模膜来制造用于衍射光栅导光板的模具的方法，以及涉及制造衍射光栅导光板的方法，所述模具具有设置在其一个表面上的第一图案部分至第四图案部分。

公开(公告)号：CN109891314B

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN201780067136.6

申请日：2017-12-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴正岵 ,  辛富建 ,  许殷奎

IPC: G02F1/155 ,  G02F1/163 ,  G02F1/1337 ,  C09K19/56 ,  H01B1/22 ,  H01B1/24 ,  H01S3/067

Abstract: 本发明涉及用于形成变色液晶装置的配线部分的方法和变色液晶装置，所述变色液晶装置包括基板、透明电极和取向层，所述方法的特征在于通过激光在所述取向层上形成均匀间隔的蚀刻线，以及用导电糊料涂覆所述蚀刻线的凹部部分，从而使受损透明电极的导电性恢复，并形成高度可靠的配线部分。