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公开(公告)号：CN110062849B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201880004941.9
申请日：2018-01-17
Applicant: 株式会社LG化学
Inventor： 李俊荣 , 崔峻源 , 刘昶埙 , 林艺勋
IPC: F15D1/02 , F15D1/00
Abstract: 本发明的目的是改善经常发生流动偏差的区域中的流动偏差，并且本发明说明了这样一种技术：利用该技术，挡板之间的距离构造成根据偏差发生的区域中的速度的不同而变化，从而改善已穿过挡板的流体的流动偏差。
公开(公告)号：CN110023605A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201880004736.2
申请日：2018-01-09
Inventor： 李俊荣 , 朴钟赫 , 崔峻源 , 刘昶埙 , 林艺勋
IPC: F01N3/20 , F01N3/28
Abstract: 本发明说明了一种通过在选择性催化还原系统中的通常发生流量偏差的区域中包括挡板构件来改善流体的流量偏差的技术。
公开(公告)号：CN113250794B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202110533908.9
IPC: F01N3/28 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/035
公开(公告)号：CN113250794A
公开(公告)日：2021-08-13
公开(公告)号：CN110023605B
公开(公告)日：2021-06-01
公开(公告)号：CN110062849A
公开(公告)日：2019-07-26
