公开(公告)号：CN1787969A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200480012186.7

申请日：2004-04-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小松诚 ,  藤原邦夫 ,  桥本幸雄

IPC: C02F1/42 ,  B01J43/00 ,  B01J47/12 ,  G03F7/30 ,  H01L21/304 ,  B08B3/14

CPC classification number: B01D67/0093 ,  B01D61/00 ,  B01D2323/30 ,  B01D2323/38 ,  B01J43/00 ,  B01J45/00 ,  B01J2220/62 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/425

Abstract: 本发明的目的是提供适用于纯化化学流体，尤其是包含碱性化合物如胺和铵盐或氢氟酸(HF)的流体的滤筒，其中该化学流体用于处理半导体工业中使用的电子器件衬底的表面。用于通过处理化学流体(该化学流体用于处理电子器件衬底表面)来除去化学流体中包含的金属杂质的本发明的滤筒，特征在于具有结合在其中的滤料，并按照要被处理的化学流体的成分和要被除去的金属杂质的种类向滤料中引入了与要被除去的金属杂质的存在形态相容的官能团。