缺陷检查装置、缺陷检查方法和孔图形的检查方法

    公开(公告)号:CN1532518A

    公开(公告)日:2004-09-29

    申请号:CN200310123005.5

    申请日:2003-12-23

    CPC classification number: G01N21/95692

    Abstract: 本发明提供一种能以高S/N比进行最上层图形的检查的缺陷检查装置。从被照明光L1照明的、作为基板的晶片2上产生衍射光L2,然后将其导入由透镜41、透镜42构成的受光光学系统4中而被汇聚,使由衍射光L2形成的晶片2的像在作为本发明的摄像单元的摄像元件5上成像。图像处理装置6对由摄像元件5取入的图像进行图像处理,检查缺陷。偏光板7被进行旋转调整,使得照明光L1用S偏振光对晶片2进行照明。S偏振光的表面反射率高,从而到达基底的光量变少。因此,利用S偏振光进行照明,由此可以使从表层反射的光量比被基底反射的光量多,从而能在S/N比良好的状态下检查表层的缺陷。

    缺陷检查装置、缺陷检查方法和孔图形的检查方法

    公开(公告)号:CN100549618C

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200310123005.5

    申请日:2003-12-23

    CPC classification number: G01N21/95692

    Abstract: 本发明提供一种能以高S/N比进行最上层图形的检查的缺陷检查装置。从被照明光L1照明的、作为基板的晶片2上产生衍射光L2,然后将其导入由透镜41、透镜42构成的受光光学系统4中而被汇聚,使由衍射光L2形成的晶片2的像在作为本发明的摄像单元的摄像元件5上成像。图像处理装置6对由摄像元件5取入的图像进行图像处理,检查缺陷。偏光板7被进行旋转调整,使得照明光L1用S偏振光对晶片2进行照明。S偏振光的表面反射率高,从而到达基底的光量变少。因此,利用S偏振光进行照明,由此可以使从表层反射的光量比被基底反射的光量多,从而能在S/N比良好的状态下检查表层的缺陷。

    图像处理方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101262548A

    公开(公告)日:2008-09-10

    申请号:CN200810082467.X

    申请日:2008-03-06

    Inventor: 杉原麻理

    CPC classification number: G06T5/50

    Abstract: 一种图像处理程序使计算机执行以下的步骤。第一步骤读取第一图像的数据和第二图像的数据,第一图像和第二图像通过在自然光下对共同物体进行成像而产生并具有不同内容的镜面反射成分。第二步骤基于从第一图像和第二图像提取的镜面反射成分的差异数据,产生输出图像,所述输出图像给出了与第一图像和第二图像不同的物体的视觉印象。

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