公开(公告)号：CN100462844C

公开(公告)日：2009-02-18

申请号：CN03817253.4

申请日：2003-08-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大村泰弘 ,  池泽弘范 ,  大卫·M·威廉森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0892 ,  G02B13/22 ,  G02B17/08 ,  G02B21/33 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种在宽广视野上以高分辨率投影成像(image)的微影浸没投影系统(lithographic immersion projection system)与方法。上述投影系统与方法包括一个在光进入浸没液体并撞击成像平面之前减少光径的边缘光线角度的最终透镜。

公开(公告)号：CN1668984A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN03817253.4

申请日：2003-08-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大村泰弘 ,  池泽弘范 ,  大卫·M·威廉森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B17/0892 ,  G02B13/22 ,  G02B17/08 ,  G02B21/33 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种在宽广视野上以高分辨率投影成像(image)的微影浸没投影系统(lithographic immersion projection system)与方法。上述投影系统与方法包括一个在光进入浸没液体并撞击成像平面之前减少光径的边缘光线角度的最终透镜。