聚有机倍半硅氧烷、转印用膜、模内成型品以及硬涂膜

    公开(公告)号:CN110621723A

    公开(公告)日:2019-12-27

    申请号:CN201880032557.X

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明的目的在于提供聚有机倍半硅氧烷,其适于用作转印用膜的硬涂层的材料,所述转印用膜能够通过模内注塑成型而形成具有高表面硬度的硬涂层,并且能够形成无粘性的涂膜而卷取成卷。本发明涉及的聚有机倍半硅氧烷具有下述式(1)表示的结构单元,在所述聚有机倍半硅氧烷中,下述式(I)表示的结构单元与下述式(II)表示的结构单元的摩尔比[式(I)表示的结构单元/式(II)表示的结构单元]为20以上且500以下,相对于硅氧烷结构单元的总量(100摩尔%),下述式(1)表示的结构单元和下述式(4)表示的结构单元的比例为55~100摩尔%,所述聚有机倍半硅氧烷的数均分子量为2500~50000、分子量分散度(重均分子量/数均分子量)为1.0~4.0,本发明还涉及包含所述聚有机倍半硅氧烷的固化性组合物。[R1SiO3/2](1),[RaSiO3/2](I),[R1SiO2/2(ORc)](4)。

    层叠体、以及成型体及其制造方法

    公开(公告)号:CN111630089B

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN201880087184.6

    申请日:2018-10-16

    Abstract: 本发明制备在基材层的至少一面层叠有硬涂层的层叠体,其中,该层叠体的基于JIS K6251的拉伸伸长率为5%以上,并且即使施加1kg/cm2的负载并用钢丝棉#0000在上述硬涂层的表面往复滑动1000次,也不会受损。上述硬涂层的铅笔硬度可以为F以上。上述层叠体的雾度可以为2%以下。上述层叠体的全光线透射率可以为85%以上。上述硬涂层可以由包含多官能(甲基)丙烯酸酯及含氟乙烯基类化合物的固化性组合物的固化物形成。上述多官能(甲基)丙烯酸酯可以包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及多元醇‑环氧烷加成物的(甲基)丙烯酸酯。该层叠体可以兼顾耐擦伤性和伸长性。

    层叠体、以及成型体及其制造方法

    公开(公告)号:CN111630089A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201880087184.6

    申请日:2018-10-16

    Abstract: 本发明制备在基材层的至少一面层叠有硬涂层的层叠体,其中,该层叠体的基于JIS K6251的拉伸伸长率为5%以上,并且即使施加1kg/cm2的负载并用钢丝棉#0000在上述硬涂层的表面往复滑动1000次,也不会受损。上述硬涂层的铅笔硬度可以为F以上。上述层叠体的雾度可以为2%以下。上述层叠体的全光线透射率可以为85%以上。上述硬涂层可以由包含多官能(甲基)丙烯酸酯及含氟乙烯基类化合物的固化性组合物的固化物形成。上述多官能(甲基)丙烯酸酯可以包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及多元醇-环氧烷加成物的(甲基)丙烯酸酯。该层叠体可以兼顾耐擦伤性和伸长性。

    粘接剂组合物、固化物、叠层体以及装置

    公开(公告)号:CN110651016A

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201880032558.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明提供一种粘接剂组合物,其可以在低温下固化而形成绝缘性、耐热性和粘接性优异的固化物。本发明的粘接剂组合物含有聚有机倍半硅氧烷(A),所述聚有机倍半硅氧烷(A)具有下述式(1)表示的结构单元,其中,下述式(1)[R1SiO3/2](式(1)中,R1表示包含自由基聚合性基团的基团)表示的结构单元和下述式(2)[R1SiO2/2(OR2)](式(2)中,R1同上,R2表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基)表示的结构单元相对于硅氧烷结构单元的总量(100摩尔%)的比例为55~100摩尔%,该聚有机倍半硅氧烷(A)的数均分子量为1500~50000,分子量分散度(重均分子量/数均分子量)为1.0~4.0。

    粘接剂组合物、固化物、叠层体以及装置

    公开(公告)号:CN110651016B

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN201880032558.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明提供一种粘接剂组合物,其可以在低温下固化而形成绝缘性、耐热性和粘接性优异的固化物。本发明的粘接剂组合物含有聚有机倍半硅氧烷(A),所述聚有机倍半硅氧烷(A)具有下述式(1)表示的结构单元,其中,下述式(1)[R1SiO3/2](式(1)中,R1表示包含自由基聚合性基团的基团)表示的结构单元和下述式(2)[R1SiO2/2(OR2)](式(2)中,R1同上,R2表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基)表示的结构单元相对于硅氧烷结构单元的总量(100摩尔%)的比例为55~100摩尔%,该聚有机倍半硅氧烷(A)的数均分子量为1500~50000,分子量分散度(重均分子量/数均分子量)为1.0~4.0。

    转印用脱模膜及无光泽成形体的制造方法

    公开(公告)号:CN110621489A

    公开(公告)日:2019-12-27

    申请号:CN201880030636.7

    申请日:2018-03-23

    Abstract: 本发明使用在基材层的至少一面形成有不包含1μm以上的微粒、具有算术平均粗糙度Ra为0.1~2μm且60°光泽度小于5%的转印面的凹凸层的转印用脱模膜,在成形体的被转印面形成为上述转印面反转而成的形状的凹凸形状,从而制造无光泽成形体。上述凹凸层可以是含有一种以上聚合物成分及一种以上固化树脂前体成分的固化性组合物的固化物。选自上述聚合物成分及上述固化树脂前体成分中的至少两种成分可通过湿式旋节线分解而发生相分离。上述转印用脱模膜的雾度可以为50%以上。上述无光泽成形体可以为电磁波屏蔽膜。使用上述转印用脱模膜来转印凹凸形状时,可以制造光泽度低的无光泽成形体。

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