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公开(公告)号：CN1438831A
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：CN03104127.2
申请日：2003-02-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32082 , H01J37/32376 , H01J37/32935 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 提供一种等离子体处理方法及装置，本发明的等离子体处理方法，其特征在于是在一边向配置在被处理物旁边的微等离子体源空间内供给气体，一边向上述微等离子体空间旁边的部件供给电力，在上述微等离子体源的空间内，发生微等离子体，从与上述空间连接的上述微等离子体源开口部分释放出的活性粒子作用于上述被处理物，在被处理物上形成细微线状部分的等离子体处理方法中，使气体与上述被处理物平行，沿着上述细微线状部分的长度方向，在开口部分附近进行流动，并在上述被处理物上形成细微线状部分。
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公开(公告)号：CN1236159A
公开(公告)日：1999-11-24
申请号：CN99107234.0
申请日：1999-05-13
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: B29D17/005 , G11B7/261 , Y10S425/81
Abstract: 本发明提供一种制造光盘基体的方法,在要作为主盘(10)的基体(1)上形成由低硬度材料制成的涂层,低－硬度材料的硬度低于金属模具突起(4c)的金属的硬度;在低－硬度材料上形成作为蚀刻掩膜的掩膜(3)的图形;在基体的厚度的方向上至少部分的蚀刻未被低硬度材料的掩膜覆盖的非－遮掩的部分(2c);在蚀刻后,去除掩膜,从而获得主盘;在主盘上形成金属部分;及将金属部分与主盘相分离,从而获得金属模具。
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公开(公告)号：CN101138063B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200680007629.2
申请日：2006-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种PDP(21)，其具备形成多个显示电极(4)，且以第一电介质层(6)及保护膜(7)覆盖显示电极(4)的前面板(22)；和具有沿与显示电极(4)正交的方向形成、并以第二电介质层(基底电介质层(9))覆盖的多个地址电极(10)的背面板(23)，其中，保护膜(7)形成为具有粒状的结晶集合而成的结构，结晶的粒径大，且邻接的结晶间的空隙小。
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公开(公告)号：CN1811009A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610006980.1
申请日：2006-01-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , H01J37/3423
Abstract: 一种成膜装置，具有：在其内部形成实施成膜处理的减压空间的处理容器；保持被实施所述成膜处理的基材的基材保持部；支持靶的靶支持部；向所述靶支持部施加电力，使得在所述减压空间中产生等离子体的电源装置，其中，所述靶在其表面上具有由粉体材料构成的粉体靶配置在其内周面上的凹部。通过使用所述靶进行成膜处理，可以提高成膜速度的面内均匀性，实现稳定的成膜。
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公开(公告)号：CN1057422C
公开(公告)日：2000-10-11
申请号：CN95118293.5
申请日：1995-10-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01J37/32229 , H05H1/30 , H05H2001/3468 , H05H2001/3478
Abstract: 微波等离子吹管，包括：一具有抽真空装置的真空容器；一同轴波导，其包括一内导体、一外导体，该波导的第一端部分与微波供给装置连接，第二端部分与该空容器连接，由此将微波沿同轴波导的波导轴导入到真空容器中；一气体供给装置，用于沿多个喷射轴将气体喷入真空容器，在该微波等离子吹管中，至少多个喷射轴中的两个在第二端部分中不与波导轴相交，且不在垂直于波导轴的平面中，在第二端部分附近，内导体与外导体直径之比沿波导轴自第一端部分向第二端部分减小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1127978A
公开(公告)日：1996-07-31
申请号：CN95118293.5
申请日：1995-10-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01J37/32229 , H05H1/30 , H05H2001/3468 , H05H2001/3478
Abstract: 微波等离子吹管，包括：一具有抽真空装置的真空容器；一同轴波导，其包括一内导体、一外导体，该波导的第一端部分与微波供给装置连接，第二端部分与该空容器连接，由此将微波沿同轴波导的波导轴导入到真空容器中；一气体供给装置，用于沿多个喷射轴将气体喷入真空容器，在该微波等离子吹管中，至少多个喷射轴中的两个在第二端部分中不与波导轴相交，且不在垂直于波导轴的平面中，在第二端部分附近，内导体与外导体直径之比沿波导轴自第一端部分向第二端部分减小。
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公开(公告)号：CN1811009B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200610006980.1
申请日：2006-01-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , H01J37/3423
Abstract: 一种成膜装置，具有：在其内部形成实施成膜处理的减压空间的处理容器；保持被实施所述成膜处理的基材的基材保持部；支持靶的靶支持部；向所述靶支持部施加电力，使得在所述减压空间中产生等离子体的电源装置，其中，所述靶在其表面上具有由粉体材料构成的粉体靶配置在其内周面上的凹部。通过使用所述靶进行成膜处理，可以提高成膜速度的面内均匀性，实现稳定的成膜。
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公开(公告)号：CN101138063A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200680007629.2
申请日：2006-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种PDP(21)，其具备形成多个显示电极(4)，且以第一电介质层(6)及保护膜(7)覆盖显示电极(4)的前面板(22)，和具有沿与显示电极(4)正交的方向形成、并以第二电介质层(基底电介质层(9))覆盖的多个地址电极(10)的背面板(23)，其中，保护膜(7)形成为具有粒状的结晶集合而成的结构，结晶的粒径大，且邻接的结晶间的空隙小。
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公开(公告)号：CN1298199C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN03104127.2
申请日：2003-02-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32082 , H01J37/32376 , H01J37/32935 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 提供一种等离子体处理方法及装置，本发明的等离子体处理方法，其特征在于是在一边向配置在被处理物旁边的微等离子体源空间内供给气体，一边向上述微等离子体空间旁边的部件供给电力，在上述微等离子体源的空间内，发生微等离子体，从与上述空间连接的上述微等离子体源开口部分释放出的活性粒子作用于上述被处理物，在被处理物上形成细微线状部分的等离子体处理方法中，使气体与上述被处理物平行，沿着上述细微线状部分的长度方向，在开口部分附近进行流动，并在上述被处理物上形成细微线状部分。
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公开(公告)号：CN1153200C
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN99107234.0
申请日：1999-05-13
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: B29D17/005 , G11B7/261 , Y10S425/81
Abstract: 本发明提供一种制造光盘基体的方法，在要作为主盘(10)的基体(1)上形成由低硬度材料制成的涂层，低-硬度材料的硬度低于金属模具突起(4c)的金属的硬度；在低-硬度材料上形成作为蚀刻掩膜的掩膜(3)的的图形；在基体的厚度的方向上至少部分的蚀刻未被低硬度材料的掩膜覆盖的非-遮掩的部分(2c)；在蚀刻后，去除掩膜，从而获得主盘；在主盘上形成金属部分；及将金属部分与主盘相分离，从而获得金属模具。
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