公开(公告)号：CN111788328A

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201980016129.2

申请日：2019-03-06

Applicant: 日本ITF株式会社

Inventor： 藤井慎也 ,  森口秀树

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  C23C16/27

Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。

公开(公告)号：CN111788328B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201980016129.2

申请日：2019-03-06

Applicant: 日本ITF株式会社

Inventor： 藤井慎也 ,  森口秀树

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  C23C16/27

Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。