公开(公告)号：CN101921990A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

公开(公告)号：CN101921990B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。