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公开(公告)号：CN108602953B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201680081753.7
申请日：2016-12-20
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08G73/06
Abstract: 通过使用含有由下述式(1)表示的重复单元结构的含有三嗪环的聚合物，从而能够形成高折射率、耐候性优异的薄膜。{式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示选自由式(2)和(3)表示的组中的至少1种。[式中，W1和W2相互独立地表示CR1R2(R1和R2相互独立地表示氢原子或可被卤素原子取代的碳数1～10的烷基(其中，它们可一起形成环))、C＝O、O、S、SO或SO2]}
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公开(公告)号：CN107922614A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680043513.8
申请日：2016-06-01
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 例如含有由下述式[4]表示的重复单元结构的含有三嗪环的聚合物为高折射率，并且在低极性溶剂、疏水性溶剂、低沸点溶剂等各种有机溶剂中的溶解性优异，通过使用包含其的膜形成用组合物，能形成高折射率、透明性优异的薄膜。
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公开(公告)号：CN105431489B
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201480042831.3
申请日：2014-07-31
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L79/04 , C08K3/04 , C08K5/04 , C09D7/61 , C09D179/04
CPC classification number: C09D179/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08K3/042 , C08K3/043 , C08K3/044 , C08K3/045 , C09D7/40 , C08K3/04 , C08L63/00 , C08K7/24 , C08K3/041
Abstract: 含有包含例如由下述式(17)表示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂、以及碳材料的碳材料分散膜形成用组合物，由于碳材料在其中良好地分散，因此，通过使用该组合物，能够制作碳材料良好地分散的状态的固化膜。
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公开(公告)号：CN107849392A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680043827.8
申请日：2016-06-01
Applicant: 日产化学工业株式会社
Inventor： 西村直也
IPC: C09D179/04 , B41J2/01 , B41M5/00 , C08G73/02 , C09D7/65 , C09D7/63 , G02B5/00 , H01L21/312
CPC classification number: C09D179/04 , B41M5/0023 , C08G73/02 , C08G73/065 , C09D7/20 , G02B5/00
Abstract: 例如，包含含有由下述式[3]表示的重复单元结构的含有三嗪环的聚合物和以超过50质量％的比例含有二醇二烷基醚系溶剂的有机溶剂的喷墨涂布用膜形成用组合物不易侵蚀喷墨涂布装置的机头，并且喷墨涂布时的液滴的排出良好，因此通过使用了喷墨涂布装置的图案印刷，能够容易地制作与目标的图案相符的高折射率膜。
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公开(公告)号：CN104272145B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201380024655.6
申请日：2013-05-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: G02B1/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08J2379/04 , C09D179/04 , G02B5/0226 , G02B5/0236 , G02B5/0242 , G02B5/0268 , H01L27/3241 , H01L51/5253 , H01L51/5268 , H01L51/5275 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K5/0025 , C08K9/06 , C08K9/08
Abstract: 含有例如包含下述式(17)所示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂和光扩散剂的膜形成用组合物给予光扩散性良好的固化膜，而且含有该聚合物、交联剂和具有交联性官能团的无机微粒的膜形成用组合物能给予高温高湿耐性良好的固化膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107406589A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680013514.8
申请日：2016-01-14
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08G73/06 , C08K5/101 , C08L79/04 , C09D4/02 , C09D179/04 , G03F7/032 , H01L21/312
CPC classification number: C08G73/0644 , C08J3/24 , C08J5/18 , C08J2379/04 , C08K5/101 , C08L79/04 , C09D179/04 , G03F7/032 , G03F7/038
Abstract: 例如，通过使用包含含有三嗪环的聚合物的组合物，该含有三嗪环的聚合物含有由下述式[5]表示的重复单元结构，从而能够得到高折射率并且可形成微细图案的薄膜。
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公开(公告)号：CN103429664B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201280013936.7
申请日：2012-02-15
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L79/04 , C08F20/20 , C08G59/50 , H01L21/312
CPC classification number: C08G73/0644 , C08F226/02 , C08G59/42 , C08G59/5086 , C08G59/56 , C08G73/0273 , C08L63/00 , C08L79/04
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其包含：例如含有下述式（17）表示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、和作为交联剂的多官能环氧化合物或多官能(甲基)丙烯酸化合物，该组合物即使在没有添加引发剂的情况下也能进行光固化，能够得到高折射率且高耐热性的固化膜。由此，可提供包含含三嗪环聚合物、即使不添加引发剂也可进行固化的光固化型膜形成用组合物，该组合物即使不添加金属氧化物，也能够以单独的该聚合物实现高耐热性、高透明性、高折射率、高溶解性、低体积收缩率。
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公开(公告)号：CN104710787A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201510155873.4
申请日：2012-02-15
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: C08G73/0644 , C08F226/02 , C08G59/42 , C08G59/5086 , C08G59/56 , C08G73/0273 , C08L63/00 , C08L79/04 , C08J5/18 , C08J2379/04 , C08J2463/00 , C08K5/34924 , C08L2201/08 , C08L2201/10 , C08L2203/16
Abstract: 本发明涉及一种组合物，其包含：例如含有下述式(17)表示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、和作为交联剂的多官能环氧化合物或多官能(甲基)丙烯酸化合物，该组合物即使在没有添加引发剂的情况下也能进行光固化，能够得到高折射率且高耐热性的固化膜。由此，可提供包含含三嗪环聚合物、即使不添加引发剂也可进行固化的光固化型膜形成用组合物，该组合物即使不添加金属氧化物，也能够以单独的该聚合物实现高耐热性、高透明性、高折射率、高溶解性、低体积收缩率。
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公开(公告)号：CN103168066A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201180050041.6
申请日：2011-08-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: C08G73/0644 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C09K11/06 , C09K2211/1425 , C09K2211/1433 , C09K2211/1466 , G02B5/223 , H01L31/0232 , H05B33/10
Abstract: 本发明涉及含三嗪环的聚合物和含有其的成膜组合物。本发明公开了含由表达式（1）表示的重复单元结构的含三嗪环的超支化聚合物。这样，可以获得在没有添加金属氧化物的情况下本身具有高耐热性、高透明性、高折射率、高耐光性、高溶解性、低体积收缩率的含三嗪环的聚合物；以及含所述聚合物的成膜组合物。（在该式中，R和R'独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，和A表示任选具有含1-20个碳原子的支链或脂环结构的亚烷基）。
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公开(公告)号：CN103154138A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180048927.7
申请日：2011-08-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L79/04 , C08G73/06 , C08K3/00 , G02F1/1335 , H01L21/312
CPC classification number: C09D179/02 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08K3/22 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C09D179/04 , C09D201/005 , H01L31/02327 , C08K9/06
Abstract: 本发明提供一种包括含三嗪环的超支化聚合物和无机微粒的成膜用组合物，所述超支化聚合物具有下式（1）表示的重复单元结构。由此可以提供下述成膜用组合物：其能够在不降低无机微粒在分散液中的分散性的情况下杂交，能够得到具有高折射率的膜，且适用于制作电子器件用膜，式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示包括芳族环和杂环的任一者或两者的二价有机基团。
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