-
公开(公告)号：CN104737046A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380055174.1
申请日：2013-10-11
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/08 , G02B1/111 , G02B5/3033 , G02F1/133528
Abstract: 提供了一种偏光膜，所述偏光膜外观优异并且可以有助于改善图像显示装置的显示特性。所述偏光膜由包括碘的聚乙烯醇系树脂薄膜构成。所述聚乙烯醇系树脂薄膜的至少一个表面作为碘减低层。
-
公开(公告)号：CN103765259A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280042812.1
申请日：2012-09-12
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3033
Abstract: 本发明的偏振膜的制造方法，其特征在于，对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理，所述交联处理后的至少一个处理中，以满足下式（1）的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂。0.0005≤A×B≤0.03（1）〔式中，A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度（mol/L），B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。〕根据本发明的制造方法，可以提供高对比度、且能够防止短波长区域中的漏光的产生的偏振特性优异的偏振膜。
-
-
公开(公告)号：CN103389535B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201310169555.4
申请日：2013-05-09
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/04 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种偏振片的制造方法、偏振片、偏光板、光学薄膜和图像显示装置。该偏振片的制造方法是对包含成膜于热塑性树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层的层叠体至少实施染色工序和拉伸工序而制造厚度10μm以下的偏振片的方法，在染色工序中，即使使用高浓度的二色性物质的染色浴时，也能够满足偏振片的特性(单体透过率、偏光度)。在对包含成膜于热塑性树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层的层叠体至少实施染色工序和拉伸工序而制造厚度10μm以下的偏振片的方法中，在染色工序之后的至少一个工序中，利用含有至少一种水溶性抗氧化剂的处理浴进行处理。
-
公开(公告)号：CN104040386B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201280066331.4
申请日：2012-11-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/305 , G02B1/08 , G02B5/3033
Abstract: 一种碘被吸附取向于聚乙烯醇系膜而成的碘系偏振片，对其实施了利用含有至少一种还原剂的处理浴的处理，且所述碘系偏振片含有还原剂的氧化体，且还原剂及其氧化体的总含量为0.06×10-6～1.6×10-6mol/g。该碘系偏振片满足高透射率、高偏振度的光学特性，且能够抑制短波长侧的漏光。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103765259B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201280042812.1
申请日：2012-09-12
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3033
Abstract: 本发明的偏振膜的制造方法，其特征在于，对聚乙烯醇系膜至少实施溶胀处理、染色处理、交联处理、拉伸处理及洗涤处理，所述交联处理后的至少一个处理中，以满足下式（1）的方式使处理液含有水溶性抗氧化剂。0.0005≤A×B≤0.03（1）〔式中，A为处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度（mol/L），B为将碘还原为碘离子的水溶性抗氧化剂的还原力。〕根据本发明的制造方法，可以提供高对比度、且能够防止短波长区域中的漏光的产生的偏振特性优异的偏振膜。
-
公开(公告)号：CN103869403B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410095579.4
申请日：2014-03-14
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , B32B37/00 , B32B38/10 , B32B38/18 , B32B27/06 , B32B27/30
CPC classification number: G02B5/3025 , B32B37/144 , B32B2457/20
Abstract: 本发明涉及光学膜层压体的制造方法。根据本发明实施方案的光学膜层压体的制造方法包括：将包括树脂基材和形成在树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光膜；在偏光膜的与树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离树脂基材，然后在偏光膜的已剥离树脂基材的一侧上层压第二保护膜。所述第一保护膜为当光学膜层压体粘贴至光学元件时设置在光学元件侧上的保护膜，所述第二保护膜为当光学膜层压体粘贴至光学元件时设置在与光学元件相对的一侧上的保护膜。沿光学膜层压体的输送方向和与输送方向垂直的方向的至少一个方向，所述第一保护膜的线性膨胀系数大于所述第二保护膜的线性膨胀系数。
-
公开(公告)号：CN103869403A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410095579.4
申请日：2014-03-14
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , B32B37/00 , B32B38/10 , B32B38/18 , B32B27/06 , B32B27/30
CPC classification number: G02B5/3025 , B32B37/144 , B32B2457/20
Abstract: 本发明涉及光学膜层压体的制造方法。根据本发明实施方案的光学膜层压体的制造方法包括：将包括树脂基材和形成在树脂基材的一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸、染色，从而在树脂基材上制造偏光膜；在偏光膜的与树脂基材相对的一侧上层压第一保护膜；和剥离树脂基材，然后在偏光膜的已剥离树脂基材的一侧上层压第二保护膜。所述第一保护膜为当光学膜层压体粘贴至光学元件时设置在光学元件侧上的保护膜，所述第二保护膜为当光学膜层压体粘贴至光学元件时设置在与光学元件相对的一侧上的保护膜。沿光学膜层压体的输送方向和与输送方向垂直的方向的至少一个方向，所述第一保护膜的线性膨胀系数大于所述第二保护膜的线性膨胀系数。
-
公开(公告)号：CN115401938A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202210328752.5
申请日：2022-03-30
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种偏光件片的制造方法，其能够抑制偏光件产生凹痕，能够制造外观优异的偏光件片。本发明的偏光件片的制造方法具备如下工序：将具有多个第1贯穿孔的长条状的表面保护薄膜贴合于长条状的偏光件而形成层叠体的工序；对从多个第1贯穿孔露出的偏光件的部分进行脱色处理而形成多个非偏光部的工序；将包含形成有多个非偏光部的偏光件的层叠体卷取成卷状的工序；在卷取后，从偏光件切出多个包含非偏光部的偏光件片的工序。表面保护薄膜还具有第2贯穿孔，所述第2贯穿孔位于多个第1贯穿孔中处于宽度方向的一端的第1贯穿孔与表面保护薄膜的宽度方向的一端缘之间。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.023 seconds)
