公开(公告)号：CN117626193A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202311108590.5

申请日：2023-08-30

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 松冈秀展 ,  高山侃也 ,  木畑充裕 ,  国方智

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/02 ,  C23C14/54 ,  C23C14/10

Abstract: 提供一种防反射薄膜的制造方法，其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。防反射薄膜的制造方法具备工序Sa和工序Sb。在工序Sa中，使用稀有气体和氧气对薄膜基材(13)的一个主面(12a)进行轰击处理。在工序Sb中，在经过轰击处理的主面(12a)侧上成膜防反射层(19)。在工序Sb中成膜的防反射层(19)由多层膜形成，该多层膜包含氧化铌薄膜、以及与氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

公开(公告)号：CN119116492A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202410723006.5

申请日：2024-06-05

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 松冈秀展 ,  国方智

IPC: B32B27/06 ,  B32B33/00 ,  B32B7/12 ,  B32B9/04 ,  B32B15/04

Abstract: 本发明提供防反射膜的制造方法，能提高在线检查时的反射光和透射光的检测精度。防反射膜(100)的制造方法包括工序S1、工序S2以及工序S3。在工序S1中，准备层叠体(10)，该层叠体(10)具有透明膜基材(11)和能够剥离地贴合于透明膜基材(11)的第一主面(11a)侧的保护膜(12)。在工序S2中，在透明膜基材(11)的第二主面(11b)侧使由两层以上薄膜构成的防反射层(101)成膜。在工序S3中，在使构成防反射层(101)的至少一个层成膜后，对该层照射可见光，检测其反射光和透射光。工序S2和工序S3一边向一个方向输送层叠体(10)一边连续实施。保护膜(12)的内部雾度值为4.0％以下。

公开(公告)号：CN117741850A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202311223268.7

申请日：2023-09-20

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 别府浩史 ,  松冈秀展 ,  国方智

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/11 ,  G02B1/14

Abstract: 提供能使反射光特性保持均匀的带防反射层的偏光板的制造方法。该制造方法具备工序Sa和工序Sb。工序Sa中在薄膜基材(10)的一个主面侧成膜由2层以上的薄膜形成的防反射层。工序Sb中将构成防反射层的至少1个层成膜后对该层照射可见光，检测其反射光。薄膜基材(10)依次具有第1保护薄膜(11)、第1粘接剂层(12)、偏光件(13)、第2粘接剂层(14)和第2保护薄膜(15)。从偏光件(13)的宽度方向的两端伸出的部位(P)的至少一部分中的第1保护薄膜(11)与第2保护薄膜(15)的间隔(D1)比夹持偏光件(13)的宽度方向的端部的部位中的第1保护薄膜(11)与第2保护薄膜(15)的间隔(D2)窄。