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公开(公告)号:CN1768259A
公开(公告)日:2006-05-03
申请号:CN200480008530.5
申请日:2004-03-04
Applicant: 斯特拉化学株式会社
Abstract: 本发明之目的在于提供能极简单地分析氟化物中的杂质及色中心的氟化物中的杂质及色中心分析方法。并提供可在形成最终单结晶前对清除剂的添加效果进行评价的氟化物中的杂质及色中心分析方法。以X射线照射得到的熔融原料,通过测定该照射前后的透光率来检测形成的色中心等的吸收峰等。据此使清除剂等的熔融条件最优化,从而可培育出适合于X射线损伤少的单结晶培养的高纯度熔融原料。