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公开(公告)号：CN101775582A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN201010109082.5
申请日：2010-02-05
Applicant: 安徽华东光电技术研究所
Abstract: 本发明属于真空镀膜这个技术领域，特别属于一种控制行波管衰减器的真空镀膜厚度的方法，在真空镀膜机镀膜室的隔板缝处同时放置衰减器和标准试样，所述标准试样与所述衰减器等长，底部设有氧化铍陶瓷底座和导电膜，所述导电膜通过导线与真空镀膜室外的万用表相连。本发明与现有技术相比，在真空镀衰减膜时，通过万用表显示标准试样的阻值变化和通过在真空镀膜室外转动挡板转盘，来精确移动挡板位置，隔断蒸发源的蒸发路径，在移动过程中被挡板挡住部分的膜厚比没有被挡住的地方薄，从而能控制不同位置的衰减膜厚变化程度，使加工出来的衰减膜达到所需的厚度，改善了衰减器渐变段的匹配性能。
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公开(公告)号：CN101775582B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201010109082.5
申请日：2010-02-05
Applicant: 安徽华东光电技术研究所
Abstract: 本发明属于真空镀膜这个技术领域，特别属于一种控制行波管衰减器的真空镀膜厚度的方法，在真空镀膜机镀膜室的隔板缝处同时放置衰减器和标准试样，所述标准试样与所述衰减器等长，底部设有氧化铍陶瓷底座和导电膜，所述导电膜通过导线与真空镀膜室外的万用表相连。本发明与现有技术相比，在真空镀衰减膜时，通过万用表显示标准试样的阻值变化和通过在真空镀膜室外转动挡板转盘，来精确移动挡板位置，隔断蒸发源的蒸发路径，在移动过程中被挡板挡住部分的膜厚比没有被挡住的地方薄，从而能控制不同位置的衰减膜厚变化程度，使加工出来的衰减膜达到所需的厚度，改善了衰减器渐变段的匹配性能。
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