公开(公告)号：CN112789454A

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201980063774.X

申请日：2019-09-25

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 藤井智步 ,  江村知恵 ,  今井洋辅 ,  宇多全史 ,  上野瑞穂

IPC: F24F13/06 ,  A61L9/00 ,  B05B17/04 ,  F24F6/00 ,  F24F6/18

Abstract: 在涡环产生装置中设定成：当设挤压体积为V(m3)，设排放口(25)的直径为D(m)，设直径为D且体积为V的圆柱的长度为L(m)，设所排放的气体的雷诺数为Re时，满足500≤Re≤3000和0.5≤L/D≤2.0的关系。

公开(公告)号：CN115698602A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202180036959.9

申请日：2021-06-10

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 江村知恵 ,  配川知之 ,  今井洋辅 ,  宇多全史 ,  上野瑞穂 ,  菊池雄行 ,  藤井智歩 ,  开発巳智子

IPC: F24F13/06

Abstract: 涡环产生装置(10)包括分别形成有空气室(S)的多个气室单元(A)。多个气室单元(A)中的每一个气室单元(A)均具有静止部件(11)和活动部件(12)。所有气室单元(A)的活动部件(12)相连结而构成一个活动体(M)。涡环产生装置(10)包括驱动部(13)和连通路(C)，该驱动部(13)与活动体(M)的端部相连接并且对活动体(M)进行驱动，该连通路(C)使多个气室单元(A)的空气室(S)连通。