公开(公告)号：CN101045232B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200710093622.3

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  索尼株式会社

Inventor： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义 ,  宇贺神肇

IPC: B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN101045232A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710093622.3

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  索尼株式会社

Inventor： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义 ,  宇贺神肇

IPC: B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。