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公开(公告)号：CN102981203B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201210483029.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B27/36 , G02F1/1335 , G06F3/041
CPC classification number: G02B1/115 , G02B5/3083 , G02F1/133528 , G06F3/041 , G06F3/044
Abstract: 本发明的目的在于提供光学层积体、偏振片和图像显示装置。本发明的光学层积体为在聚酯基材上形成底涂层、在上述底涂层上形成硬涂层的光学层积体，其特征在于：上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之差(nx-ny)为0.07～0.20，所述慢轴方向为折射率大的方向，所述快轴方向为与所述慢轴方向正交的方向；上述底涂层的折射率(np)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny
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公开(公告)号：CN109196390A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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公开(公告)号：CN102981203A8
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210483029.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B27/36 , G02F1/1335 , G06F3/041
Abstract: 本发明的目的在于提供光学层积体、偏振片和图像显示装置。本发明的光学层积体为在聚酯基材上形成底涂层、在上述底涂层上形成硬涂层的光学层积体，其特征在于：上述聚酯基材具有8000nm以上的延迟、且慢轴方向的折射率(nx)与快轴方向的折射率(ny)之差(nx-ny)为0.07～0.20，所述慢轴方向为折射率大的方向，所述快轴方向为与所述慢轴方向正交的方向；上述底涂层的折射率(np)与上述聚酯基材的慢轴方向的折射率(nx)和快轴方向的折射率(ny)具有ny
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公开(公告)号：CN115570910A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN109196390B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107407744B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201680017086.6
申请日：2016-03-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种抑制反射率且颜色均匀性优异的防反射膜。在透明基材上具有高折射率层及低折射率层，其中，将该防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘合剂贴合黑色板制成样品，由该样品测定的该防反射膜的视觉反射率Y值满足下述条件(1)，并且，由该样品测定的Lab表色系统的a＊值及b＊值满足特定的条件。＜条件(1)＞将相对于样品的低折射率层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0度，以入射角5度向样品入射光时，该入射光的正反射光的视觉反射率Y值为0.50％以下。
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公开(公告)号：CN115570910B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113784850B
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113784850A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN107407744A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680017086.6
申请日：2016-03-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种抑制反射率且颜色均匀性优异的防反射膜。在透明基材上具有高折射率层及低折射率层，其中，将该防反射膜的透明基材的与高折射率层侧相反侧的面通过透明粘合剂贴合黑色板制成样品，由该样品测定的该防反射膜的视觉反射率Y值满足下述条件(1)，并且，由该样品测定的Lab表色系统的a＊值及b＊值满足特定的条件。＜条件(1)＞将相对于样品的低折射率层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0度，以入射角5度向样品入射光时，该入射光的正反射光的视觉反射率Y值为0.50％以下。
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