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公开(公告)号：CN102493936A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110421395.9
申请日：2011-12-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于磁聚焦的霍尔推力器，它涉及霍尔推力器。它为解决现有霍尔推进器由于高能离子对壁面材料进行溅射轰击，造成通道陶瓷壁面被击穿，使其性能发生大幅改变，最终造成推力器失效的问题。阳极设置在放电通道中部，阴极设置在放电通道出口处；外线圈和内线圈对称设置在放电通道的出口处两侧，和分别为轴向磁感应强度和径向磁感应强度；外线圈和内线圈产生的磁场位形的磁力线倾斜角为am，则通过改变外线圈4和内线圈5的励磁电流强度产生两种磁场位形：磁力线与所述径向方向重合，则am＝0°；磁力线向阳极1方向倾斜，则am＜0°。它通过影响轰击壁面的离子通量、能量及入射角度等溅射参数，实现降低通道壁面侵蚀、延长推力器寿命的方法。
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公开(公告)号：CN101861048A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN201010118597.1
申请日：2010-03-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
CPC classification number: Y02E30/126
Abstract: 一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法，它涉及一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法。它解决了现有霍尔推力器通道内磁透镜下等离子体束聚焦仅依赖于磁透镜位形调节，调节手段单一的问题，本发明的具体过程为：步骤一，获取磁透镜位形和等离子体束聚焦指标，并计算霍尔推力器通道内的满足等离子体束聚焦指标的离子射流聚焦区；步骤二：实测霍尔推力器通道内的工质电离分布区域，控制实测获得的工质电离分布区域在计算获得的离子射流聚焦区内，实现等离子体束聚焦。本发明为霍尔推力器的广泛应用奠定了基础。
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公开(公告)号：CN101861048B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201010118597.1
申请日：2010-03-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
CPC classification number: Y02E30/126
Abstract: 一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法，它涉及一种磁透镜下等离子体束聚焦的方法。它解决了现有霍尔推力器通道内磁透镜下等离子体束聚焦仅依赖于磁透镜位形调节，调节手段单一的问题，本发明的具体过程为：步骤一：获取磁透镜位形和等离子体束聚焦指标，并计算霍尔推力器通道内的满足等离子体束聚焦指标的离子射流聚焦区；步骤二：实测霍尔推力器通道内的工质电离分布区域，控制实测获得的工质电离分布区域在计算获得的离子射流聚焦区内，实现等离子体束聚焦。本发明为霍尔推力器的广泛应用奠定了基础。
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