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公开(公告)号：CN110262309B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201910368973.3
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G05B19/042 , B82B3/00 , B82Y40/00 , G01B7/02 , G01B7/28
Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法，所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心，利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点，实现宏‑微联动控制，采用模拟信号方式，保证信号处理、传输的实时性，满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理，作为闭环控制参考信号，该方式测试结果精确、对测试环境要求较低，可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号，利于闭环精确控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110316695A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910368975.2
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块，所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针，其中：所述电容式位移传感器固定在电容固定座；所述电容固定座固定在调节座上方；所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方；所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上；所述调节座固定在锁紧支座；所述锁紧支座固定在支架上；所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能，相比较与商业化AFM，具有更大的加工尺寸及材料适用范围。
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公开(公告)号：CN110316695B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201910368975.2
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块，所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针，其中：所述电容式位移传感器固定在电容固定座；所述电容固定座固定在调节座上方；所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方；所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上；所述调节座固定在锁紧支座；所述锁紧支座固定在支架上；所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能，相比较与商业化AFM，具有更大的加工尺寸及材料适用范围。
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公开(公告)号：CN110699653B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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公开(公告)号：CN110699653A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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公开(公告)号：CN110262309A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910368973.3
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G05B19/042 , B82B3/00 , B82Y40/00 , G01B7/02 , G01B7/28
Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法，所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心，利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点，实现宏-微联动控制，采用模拟信号方式，保证信号处理、传输的实时性，满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理，作为闭环控制参考信号，该方式测试结果精确、对测试环境要求较低，可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号，利于闭环精确控制。
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