公开(公告)号：CN109913834A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201910239046.1

申请日：2019-03-27

Applicant: 吉林大学

Inventor： 胡超权 ,  毕超斌 ,  文懋 ,  郑伟涛

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/08 ,  G06F17/50

Abstract: 本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种调控粗化速率的增原子扩散模型，本发明将增原子扩散理论指导实践，简化了复杂的扩散只考虑影响表面粗化速率的上坡和下坡扩散，建立了一个“增原子扩散”模型，定量地揭示了微观增原子扩散与宏观表面粗化之间的关系，提出的控制粗化速率的增原子扩散模型不仅能够指导实验原位的制备出各种表面粗糙度的薄膜，而且还够预测出薄膜表面粗糙度的变化程度，广泛适用于各种沉积制备方法。

公开(公告)号：CN109913834B

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201910239046.1

申请日：2019-03-27

Applicant: 吉林大学

Inventor： 胡超权 ,  毕超斌 ,  文懋 ,  郑伟涛

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/08 ,  G06F30/20

Abstract: 本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种调控粗化速率的增原子扩散模型，本发明将增原子扩散理论指导实践，简化了复杂的扩散只考虑影响表面粗化速率的上坡和下坡扩散，建立了一个“增原子扩散”模型，定量地揭示了微观增原子扩散与宏观表面粗化之间的关系，提出的控制粗化速率的增原子扩散模型不仅能够指导实验原位的制备出各种表面粗糙度的薄膜，而且还够预测出薄膜表面粗糙度的变化程度，广泛适用于各种沉积制备方法。