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公开(公告)号:CN102197317B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200980142809.5
申请日:2009-10-26
Applicant: 古野电气株式会社
IPC: G01S19/37
Abstract: 利用组合载波平滑后的伪距的校正方法高精度地校正伪距。电码伪距校正部(19),以L1载波相位的时间变化量ΔADRL1(i)载波平滑L1电码伪距PRL1(i),且以载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)载波校正电码电离层延迟IPRL1(i)。电码伪距校正部(19),通过从平滑处理后L1电码伪距PRL1sm(i)减去校正后电离层延迟I′L1sm(i)进行电离层延迟校正。此时,电码伪距校正部(19)使在L1载波相位的时间变化量ADRL1(i)所含的载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)的延迟方向和在校正后电离层延迟I′L1sm(i)的算出所用的载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)的延迟方向相一致。
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公开(公告)号:CN102197317A
公开(公告)日:2011-09-21
申请号:CN200980142809.5
申请日:2009-10-26
Applicant: 古野电气株式会社
IPC: G01S19/37
Abstract: 利用组合载波平滑后的伪距的校正方法高精度地校正伪距。电码伪距校正部(19),以L1载波相位的时间变化量ΔADRL1(i)载波平滑L1电码伪距PRL1(i),且以载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)载波校正电码电离层延迟IPRL1(i)。电码伪距校正部(19),通过从平滑处理后L1电码伪距PRL1sm(i)减去校正后电离层延迟I′L1sm(i)进行电离层延迟校正。此时,电码伪距校正部(19)使在L1载波相位的时间变化量ADRL1(i)所含的载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)的延迟方向和在校正后电离层延迟I′L1sm(i)的算出所用的载波电离层延迟的时间变化量ΔIADRL1(i)的延迟方向相一致。
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