公开(公告)号：CN105068278A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201510591902.1

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

CPC classification number: G02F1/0311

Abstract: 基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。

公开(公告)号：CN111338010A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201911026307.8

申请日：2019-10-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  李法君 ,  申家情 ,  张丽蓉 ,  刘雪莹 ,  谢奕浓

IPC: G02B5/00

Abstract: 本发明公开了一种近红外完美吸收的表面等离激元超材料结构，用以降低计算量和减少设计时间；其包括：上层金属层、上层介质层、中间层金属层、中间层介质层和下层金属，所述中间层介质层位于中间层金属层和下层金属之间，所述上层金属层和中间层金属层之间设置有上层介质层。所述上层金属层、上层介质层、中间层金属层和中间层介质层构成双重复合金属-介质-金属亚波长结构单元，所述双重复合金属-介质-金属亚波长结构单元周期为500nm。结合非均匀叠层和传输线等效结构方法，设计近红外波段具有完美吸收功能的表面等离激元超材料。

公开(公告)号：CN105068278B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201510591902.1

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

Abstract: 基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。

公开(公告)号：CN105277514A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510833559.7

申请日：2015-11-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  张丽蓉 ,  白彦强 ,  严爽 ,  柳清伙

IPC: G01N21/41

Abstract: 可见光折射率传感器及其加工方法，涉及光传感器。可见光折射率传感器为3层结构，从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层。加工方法：将基片置于匀胶机中，采用旋涂的方式将紫外固化纳米压印胶均匀地涂布在基片上，烘烤后在基片上形成纳米压印胶层；将表面干净的中间聚合物软膜放在镍模板表面进行热纳米压印，得中间聚合物软模板，在中间聚合物软模板表面得到与镍模板互补的纳米结构，以中间聚合物软模板为紫外纳米压印模板，将表面涂有纳米压印胶层的基片置于纳米压印光刻系统样品台上进行紫外纳米压印，在纳米压印胶层表面得到与中间聚合物模板互补的纳米结构；用电子束蒸镀仪先蒸镀铬层，再蒸镀银层，即得可见光折射率传感器。

公开(公告)号：CN205139007U

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201520951352.5

申请日：2015-11-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  张丽蓉 ,  白彦强 ,  严爽 ,  柳清伙

IPC: G01N21/41

Abstract: 一种可见光折射率传感器，涉及光传感器。为3层结构，从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层，所述纳米压印胶层涂布在基片的上表面，纳米压印胶层的上表面沉积均匀周期排列的微纳米金属圆孔洞阵列，铬层蒸镀在纳米压印胶层上，银层蒸镀在铬层上。纳米压印胶层的厚度可为200～250nm；铬层的厚度可为10～20nm；银层的厚度可为200～250nm；所述周期可为500～600nm。工艺简单、尺寸小、灵敏度高、成本低，让可见光折射率传感器的应用更加广泛。

公开(公告)号：CN204925542U

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201520719757.6

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

Abstract: 一种基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。