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公开(公告)号：CN101263430B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200680033544.1
申请日：2006-09-12
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B17/0657 , G02B5/08 , G03F7/70233
Abstract: 总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310-360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所述旋转非对称表面从旋转对称表面偏离约10nm以上，并且所述光学系统是微光刻投影光学系统。
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