含氟双二苯乙炔类液晶化合物及其制备方法

    公开(公告)号:CN102603568A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201110383773.9

    申请日:2011-11-28

    Abstract: 本发明属于液晶化合物合成技术领域,涉及含氟双二苯乙炔类液晶化合物及其制备方法。该化合物结构如下所示:其中n为1-4的整数,R1为供电子基团,R2为吸电子基团。该类化合物主要经Sonogashira偶联反应和去三甲基硅反应得到。本发明制备的一类含氟双二苯乙炔液晶化合物具有大的π-电子共轭体系,分子端基具有吸电子基团和供电子基团,且分子无对称性。本发明制备的含氟双二苯乙炔类液晶化合物具有大双折射率,且分子两端基团的特点,将在非线性光学、3D图像显示、空间光调制器及光学设备上有很大的应用前景。

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