公开(公告)号：CN108883604B

公开(公告)日：2021-09-03

申请号：CN201780020137.5

申请日：2017-03-28

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 石井良治 ,  西川健 ,  本乡忠志

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/36 ,  B65D65/40

Abstract: 本发明涉及阻气膜。该阻气膜至少包括：含有以对苯二甲酸丁二醇酯单元为主要结构单元的聚酯树脂的膜基材、以及一层以上的金属氧化物层，其中在150℃下加热30分钟后，该阻气膜在行进方向(MD方向)上的、由下式表示的热收缩率为0.6％以上且小于3.0％，热收缩率＝(加热前的长度‑加热后的长度)/加热前的长度×100(％)。

公开(公告)号：CN108883604A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780020137.5

申请日：2017-03-28

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 石井良治 ,  西川健 ,  本乡忠志

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/36 ,  B65D65/40

CPC classification number: B32B9/00 ,  B32B27/36 ,  B65D65/40

Abstract: 本发明涉及阻气膜。该阻气膜至少包括：含有以对苯二甲酸丁二醇酯单元为主要结构单元的聚酯树脂的膜基材、以及一层以上的金属氧化物层，其中在150℃下加热30分钟后，该阻气膜在行进方向(MD方向)上的、由下式表示的热收缩率为0.6％以上且小于3.0％，热收缩率＝(加热前的长度‑加热后的长度)/加热前的长度×100(％)。

公开(公告)号：CN1535203A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN02814902.5

申请日：2002-07-23

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 铃木浩 ,  金高武志 ,  大桥美季 ,  佐佐木升 ,  中岛隆幸 ,  石井良治

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/16 ,  C23C14/02

CPC classification number: C04B35/14 ,  C04B35/03 ,  C04B35/057 ,  C04B35/10 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/08 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31609 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31765 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31931 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938 ,  Y10T428/31971

Abstract: 本发明涉及一种蒸镀膜，包括实质上由高分子材料制成的基材以及实质上由陶瓷制成的蒸镀层，其中基材在蒸镀上蒸镀层之前，被施以通过使用空心阳极等离子处理器进行的等离子预处理。

公开(公告)号：CN1297397C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN02814902.5

申请日：2002-07-23

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 铃木浩 ,  金高武志 ,  大桥美季 ,  佐佐木升 ,  中岛隆幸 ,  石井良治

IPC: B32B9/00 ,  B32B27/16 ,  C23C14/02

CPC classification number: C04B35/14 ,  C04B35/03 ,  C04B35/057 ,  C04B35/10 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/08 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31609 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667 ,  Y10T428/31765 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31931 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938 ,  Y10T428/31971

Abstract: 本发明涉及一种蒸镀膜，包括实质上由高分子材料制成的基材以及实质上由陶瓷制成的蒸镀层，其中基材在蒸镀上蒸镀层之前，被施以通过使用空心阳极等离子处理器进行的等离子预处理。