公开(公告)号：CN101006021A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200680000217.6

申请日：2006-06-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 上田修平 ,  柴野由纪夫 ,  渡部厚 ,  草开大介

IPC: C03C19/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F7/70791 ,  C03C19/00 ,  G02F2001/133302 ,  G03F1/60

Abstract: 通过将大型玻璃基板材料加工(1)基于基板材料在垂直姿态下的高度数据的整平去除量加上变形修正去除量，来制备用于形成光掩模基板的大型玻璃基板。变形修正去除量是从以下量计算的：(2)基板材料在水平姿态下由于其自身重量而产生的弯曲；(3)由于夹紧在曝光设备中引起的光掩模基板的变形；以及(4)用于支撑母玻璃的台板的精度失真。

公开(公告)号：CN101006021B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200680000217.6

申请日：2006-06-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 上田修平 ,  柴野由纪夫 ,  渡部厚 ,  草开大介

IPC: C03C19/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F7/70791 ,  C03C19/00 ,  G02F2001/133302 ,  G03F1/60

Abstract: 通过将大型玻璃基板材料加工(1)基于基板材料在垂直姿态下的高度数据的整平去除量加上变形修正去除量，来制备用于形成光掩模基板的大型玻璃基板。变形修正去除量是从以下量计算的：(2)基板材料在水平姿态下由于其自身重量而产生的弯曲；(3)由于夹紧在曝光设备中引起的光掩模基板的变形；以及(4)用于支撑母玻璃的台板的精度失真。

公开(公告)号：CN100514162C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200410071269.5

申请日：2004-07-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 草开大介 ,  柴野由纪夫

IPC: G02F1/136 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: B24D13/10 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70791 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24777 ,  Y10T428/315

Abstract: 一种适用于曝光的大尺寸基板，其为具有500-2000mm对角线长度或直径、1-20mm厚度且有0.05-0.4μm粗糙度的周边表面的板形形状。清洗期间从基板释放的微粒数最小，导致清洗步骤中提高产量。能够手工操作基板，无需操作机构实现了基板质量的改善。

公开(公告)号：CN1577029A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410071269.5

申请日：2004-07-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 草开大介 ,  柴野由纪夫

IPC: G02F1/136 ,  G03F7/20

CPC classification number: B24D13/10 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70791 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24777 ,  Y10T428/315

Abstract: 一种适用于曝光的大尺寸基板，其为具有500－2000mm对角线长度或直径、1－20mm厚度且有0.05－0.4μm粗糙度的周边表面的板形形状。清洗期间从基板释放的微粒数最小，导致清洗步骤中提高产量。能够手工操作基板，无需操作机构实现了基板质量的改善。