真空蒸发设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1070434A

    公开(公告)日:1993-03-31

    申请号:CN92110361.1

    申请日:1992-09-08

    Abstract: 一种真空蒸发设备,包括一真空容器,一蒸发源和一夹持装置。蒸发源位于真空容器内。一基片由位于蒸发源上方的夹持装置夹持。一防沉积板设置于设备内。真空容器由防沉积板划分成一包括蒸发源的部分和一包括夹持装置的部分。防沉积板带有位于蒸发源上方的孔。孔这样成型,即当从蒸发源看夹持装置时孔与夹持装置重叠。

    光学元件及其制造方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102037386B

    公开(公告)日:2014-08-06

    申请号:CN200980118836.9

    申请日:2009-05-26

    Abstract: 提供一种光学元件的制造方法,该方法包括:在基板上形成框架部分并在被框架部分包围的空间部分中形成结构体,以由此形成第一光学部件;在减压环境中,在第一光学部件上设置第二光学部件,以形成在减压状态下密封空间部分的光学元件;以及将光学元件暴露于大气中,由此通过大气和在减压状态下被密封的空间部分之间的差压来使结构体和第二光学部件相互紧密接触。因此,能够在接合光学元件时抑制光学元件在接合中的损坏并进一步在不使用粘接剂的情况下提高光学元件的功能和强度。

    光学元件及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102037386A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN200980118836.9

    申请日:2009-05-26

    Abstract: 提供一种光学元件的制造方法,该方法包括:在基板上形成框架部分并在被框架部分包围的空间部分中形成结构体,以由此形成第一光学部件;在减压环境中,在第一光学部件上设置第二光学部件,以形成在减压状态下密封空间部分的光学元件;以及将光学元件暴露于大气中,由此通过大气和在减压状态下被密封的空间部分之间的差压来使结构体和第二光学部件相互紧密接触。因此,能够在接合光学元件时抑制光学元件在接合中的损坏并进一步在不使用粘接剂的情况下提高光学元件的功能和强度。

    真空蒸发设备
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1064720C

    公开(公告)日:2001-04-18

    申请号:CN92110361.1

    申请日:1992-09-08

    Abstract: 一种真空蒸发设备,包括一真空容器,一蒸发源和一夹持装置。蒸发源位于真空容器内。一基片由位于蒸发源上方的夹持装置夹持。一防沉积板设置于设备内。真空容器由防沉积板划分成一包括蒸发源的部分和一包括夹持装置的部分。防沉积板带有位于蒸发源上方的孔。孔这样成形,即当从蒸发源看夹持装置时孔与夹持装置重叠。

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