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公开(公告)号：CN115052914B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202180007935.0
申请日：2021-01-04
Applicant: 住友电木株式会社
Inventor： O·布尔托维
Abstract: 根据本发明的实施方式包含一种组合物，其包含潜伏性有机钌化合物及吡啶化合物、以及进行开环易位聚合(ROMP)的一种以上的单体，上述组合物曝光于合适的光化辐射下时会形成实质上透明的膜。上述组合物在温度高达80℃的环境条件下保存数天时非常稳定，并且仅在曝光于光化辐射下时进行本体聚合。因此，本发明的组合物可用于包括三维打印材料、涂料、密封剂、填料、流平剂等的各种光电应用中。
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公开(公告)号：CN112335252B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN201980043710.3
申请日：2019-06-28
Applicant: 住友电木株式会社
IPC: H04N21/41 , H04N21/414 , H04N21/431 , H04N21/436 , H04N21/482 , H04N21/485 , G06F3/16 , H04L12/28 , C08F232/00 , C08G61/08 , C08F226/06 , C09D175/04
Abstract: 根据本发明的实施方式包含一种组合物，其包含：潜伏催化剂；具有能够对潜伏催化剂进行配位并活化的相对离子且能够产生布朗斯台德酸的化合物；及进行开环移位聚合(ROMP)的一种以上的单体，当组合物曝光于合适的辐射时会形成三维(3D)物体。用于本组合物中的催化剂体系由于对氧气敏感，因此在大气环境条件下不会发生聚合。通过该工序制造的三维物体显示出优异的机械性能，尤其具有高变形温度、冲击强度、断裂伸长率等。因此，本发明的组合物可用作用于形成具有低于100μm的微米级别的各种尺寸的高冲击强度物体的3D喷墨材料，并且本发明的组合物可用于各种其他用途中。
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公开(公告)号：CN111656792B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201980010204.4
申请日：2019-01-25
Applicant: 住友电木株式会社
Inventor： O·布尔托维
IPC: H04N21/41 , H04N21/414 , H04N21/431 , H04N21/436 , H04N21/482 , H04N21/485 , G06F3/16 , H04L12/28 , C08F232/00 , C08G61/08 , C08F226/06
Abstract: 根据本发明的实施方式包含一种组合物，其包含潜伏性催化剂、以及能够与一种以上的单体产生布朗斯台德酸的化合物，当所述组合物曝光于适当的辐射时，进行开环易位聚合(ROMP)，形成实质上透明的薄膜。所使用的单体具有1.4至1.6范围的折射率，因此能够调整这些组合物来形成具有不同折射率的透明的薄膜。本发明的组合物的特征在于具有低介电常数(约2.2至3的范围的低k)。因此，本发明的组合物可用于各种光电应用中，包括如涂料、包封剂、填料及流平剂等。
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公开(公告)号：CN114938648B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202180008916.X
申请日：2021-01-11
Applicant: 住友电木株式会社
Inventor： O·布尔托维
Abstract: 根据本发明的实施方式包含一种组合物，其包含潜伏性有机钌化合物、吡啶化合物、光敏剂及紫外光阻隔化合物以及一种以上的单体，所述组合物在曝光于合适的光化辐射下时进行开环易位聚合(ROMP)以形成实质上透明的薄膜或三维物体。所述组合物在温度高达80℃的环境条件下非常稳定数天，且仅在惰性环境例如在氮气覆盖下曝光于合适的光化辐射下时会进行本体聚合。因此，本发明的组合物可用于包括三维打印材料、涂料、密封剂、填料、流平剂等的各种光电应用中。
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