一种可调平的纳米压印设备

    公开(公告)号:CN221884113U

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202420393743.9

    申请日:2024-03-01

    Inventor: 彭行焜 蒋志韬

    Abstract: 本实用新型公开了一种可调平的纳米压印设备,包括升降加压组件、丝杆调平模组、模板调平盘、基片装载台。升降加压组件内置导向板,丝杆调平模组穿过导向板与模板调平盘连接,模板调平盘上设有环形沟槽与角度顶珠连接,基片装载台位于下支撑板上。本实用新型提供的纳米压印设备中,通过三个步进电机丝杆组件设置正负位移,带动模板调平盘的角度转动,调节模板和基片之间的平行度,从而提高的纳米压印的质量。

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