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公开(公告)号：CN109542252B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201811484401.3
申请日：2018-12-06
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G06F3/0346 , G06F3/01 , G06F3/0487 , G08C23/04
Abstract: 本发明涉及增强现实技术应用领域，特别涉及一种遥控轨迹笔及其使用方法及电缆虚拟预装系统；本发明包括用于与图像处理计算机进行信息交互的遥控模块及与遥控模块电性连接的按键模块；该遥控模块包括红外线LED、遥控信息处理单元和供电电源；本发明应用于电缆虚拟预装系统内，其通过操作按键模块进行控制命令的操控，遥控信息处理单元采集和识别该按键模块的控制命令，再控制红外线LED产生轨迹目标，同时将该按键模块的控制命令发送至图像处理计算机，完成信息交互，方便电缆虚拟预装系统完成虚拟电缆的预装配。
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公开(公告)号：CN110007384B
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201910225892.8
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本申请涉及全息光栅制作的技术领域，具体公开一种二维平面全息光栅曝光方法，包括步骤一，配备分振幅型小口径二维平面全息光栅曝光装置；步骤二，配备具有激光干涉仪的二维运动工作台；步骤三，配备外差式二维干涉图样相位锁定装置；步骤四，在光栅基底预设位放置光栅基底，移动二维运动工作台，使光栅基底需要曝光的位置运动到二维干涉图样的下方进行曝光。该方法可在光栅基底任意位置进行不小于干涉图样口径的一维或二维形貌扫描曝光，且所制作的光栅面积仅与工作台行程相关，无需大口径光学元件，特别适于大面积二维平面全息光栅的曝光。
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公开(公告)号：CN107687814B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201710860038.X
申请日：2017-09-21
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种测量装置包括：工作台、光栅基底、步进方向测量镜、步进方向干涉仪、光学曝光装置以及全息体光栅相位定位测量装置；其中，光栅基底与步进方向测量镜固定于工作台的同一表面，且步进方向测量镜设置于光栅基底的一侧；步进方向干涉仪以设定距离与步进方向测量镜相对固定设置；光学曝光装置以第一预设距离固定于工作台上方，用于发射出曝光光束；全息体光栅相位定位测量装置以第二预设距离固定于工作台上方，用于发射出测量光束实时测量已完成曝光的全息体光栅的相位变化。该测量装置解决了随着工作台步进距离的增大导致步进方向干涉仪的测量精度和重复性不符合要求的问题，有效提高了光栅衍射波前的质量。
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公开(公告)号：CN107899891B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201711096951.3
申请日：2017-11-09
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种用于大面积光栅制造的涂布装置及一种涂布方法。本发明公开的用于大面积光栅制造的涂布装置包括：基片运动模块、涂布模头模块、升降模块、液体循环模块和基片调整模块。该涂布装置具有涂布膜层厚度范围广，涂布液体利用率高、膜厚均匀性好、对基片形状尺寸敏感度低等显著优点，可满足米级尺寸光栅高均匀性、亚微米厚度薄膜涂布。
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公开(公告)号：CN107655411B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201710735473.X
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种长行程、高精度测量的光栅位移测量系统，包括：三个高刻线密度光栅，所述三个高刻线密度光栅呈“品”字形布设形成测量光栅，位于上侧的所述高刻线密度光栅的左端承载于位于左侧的所述高刻线密度光栅的右端，右端承载于位于右侧的所述高刻线密度光栅的左端，且每两个所述高刻线密度光栅的重叠部分中，槽与槽相对应，脊与脊相对应。本发明是一种体积小，易于安装，用于精密加工领域工作台位移测量可以大大降低对环境的控制成本，提升系统性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106767916B
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201611115941.5
申请日：2016-12-07
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01C25/00
Abstract: 本发明涉及一种用于点源透射比法杂散光系数测试的宽动态光电探测系统，属于星敏感器、空间光学遥感成像相机等空间光学仪器光学性能测试领域。解决现有探测装置探测量程不够、采用不同类型的光电探测器组合测试过程出现非线性的技术问题。所述宽动态光电探测系统利用三个相同的宽动态光电探测装置分别探测空间光学系统入瞳、像面处辐照度和背景杂散光，数据采集计算机通过RS422接口采集光电探测装置数据并计算点源透射比。本发明通过三个宽动态光电探测装置实现辐照度的大范围线性测量，探测动态范围优于109，满足空间光学仪器点源透射比法的杂散光系数测试要求，对于研制专门的基于点源透射比法的杂散光测试设备具有重要意义。
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公开(公告)号：CN109870754A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201910225890.9
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本申请涉及全息光栅制作的技术领域，具体公开一种二维平面全息光栅曝光装置，包括用于发射光源激光的激光器、二分之一波片、第一定频声光调制器、偏振分束棱镜、第一分束棱镜、第一移频声光调制器、第一平面反射镜、第一滤波准直系统、第一分光片、第二定频声光调制器、第二平面反射镜、第二滤波准直系统、第二分光片、第二分束棱镜、第二移频声光调制器、第三平面反射镜、第三滤波准直系统、第三分光片、第三定频声光调制器、第四平面反射镜、第四滤波准直系统、第四分光片、外差相位测量模块、二维运动工作台和控制系统。该装置采用小尺寸的二维干涉图样在光栅基底上进行扫描曝光，所制作光栅尺寸仅与工作台行程有关。
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公开(公告)号：CN109782384A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201811597429.8
申请日：2018-12-26
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种新型的临界角透射光栅制作方法，包括以下步骤：S1、在单晶硅基底双面沉积氮化硅层，然后在氮化硅层表面镀铬，再双面旋涂光刻胶，经紫外曝光、显影后，湿法刻蚀铬，得到基准光栅；S2、在基准光栅双面旋涂光刻胶，经扫描干涉场曝光系统曝光、显影后得到光栅掩膜；S3、然后干法刻蚀光栅掩膜的氮化硅层，湿法刻蚀单晶硅，最后去除氮化硅层，即得透射光栅。本发明的新型的临界角透射光栅制作方法，其通过双面镀铬、双面旋涂光刻胶、双面曝光等工艺制作单晶硅光栅掩膜。然后双向同时利用碱性刻蚀液对单晶硅进行湿法刻蚀，即可降低光栅展宽面积，实现光栅开口率的提升。
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公开(公告)号：CN109597486A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811480491.9
申请日：2018-12-05
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明实施例公开了一种智能家装体验设备及方法。本发明实施例所提供的智能家装体验设备利用双目立体视觉相机获取家装真实场景信息，利用激光器和激光光学衍射元件产生激光光斑阵列，并利用激光光斑阵列产生特征标识构建三维坐标信息，采用三维建模工具创建家具等物体的三维虚拟模型，并利用软件导入真实场景中，通过增强现实的注册技术，实现虚实信息的融合，从而使客户采用超视觉的感观体验完成家装的交互，达到所见即所得的效果。
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公开(公告)号：CN107942426A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201711302638.0
申请日：2017-12-11
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明公开一种用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法的结构包括光束宏动调整模块及光束微动调整模块，用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法步骤如下：激光束首先进入光束微动调整模块进行微动姿态稳定，由光束微动调整模块调整后的出射光束再通过分束光栅，分束光栅分束后的光束再进入光束宏动调整模块进行宏动姿态调整；光束宏动调整模块对激光束的指向进行精确定位调整，光束微动调整模块对激光束漂移进行实时纠正，以此有效的对扫描干涉场曝光激光束的姿态进行指向控制和抖动抑制，达到保证曝光激光束指向的精度与稳定性的目的，对扫描干涉曝光获取优质的全息光栅槽型提供有力保障。
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