公开(公告)号：CN1155468C

公开(公告)日：2004-06-30

申请号：CN99815987.5

申请日：1999-11-30

Applicant: 东陶机器株式会社 ,  日本板硝子株式会社

Inventor： 藤本英史 ,  高桥一雄 ,  武田宏二 ,  田中启介 ,  荻野悦男 ,  森健次 ,  平田昌宏

IPC: B32B9/00 ,  B32B15/04 ,  B32B17/06 ,  B32B18/00 ,  C03C17/23

CPC classification number: B32B17/06 ,  C03C17/3417

Abstract: 本发明提供一种洗净后亲水性在极短的时间内达到恢复，并且，恢复的亲水性具有高的持久性的亲水性构件。在作为基体材料的玻璃板1的表面形成氧化锡(SnO2)膜2，在该氧化锡(SnO2)膜2的表面形成了作为上敷层的氧化硅(SiO2)膜3。作为玻璃板1，是以SiO2作为主要成分的钠玻璃，氧化锡膜(SnO2)2，例如，用CVD法制成，其厚度为10～800nm，表面的表面平均粗糙度(Ra)为0.5～25nm。另外，氧化硅(SiO2)膜3用溅射法制成，其厚度为0.1～100nm。然而，因氧化硅(SiO2)膜3在上述氧化锡(SnO2)膜2上形成，所以，氧化锡膜(SnO2)2的凹凸被原样转移，氧化硅(SiO2)膜3的表面的表面平均粗糙度(Ra)也是0.5～25nm。

公开(公告)号：CN1334769A

公开(公告)日：2002-02-06

申请号：CN99815987.5

申请日：1999-11-30

Applicant: 东陶机器株式会社 ,  日本板硝子株式会社

Inventor： 藤本英史 ,  高桥一雄 ,  武田宏二 ,  田中启介 ,  荻野悦男 ,  森健次 ,  平田昌宏

IPC: B32B9/00 ,  B32B15/04 ,  B32B17/06 ,  B32B18/00

CPC classification number: B32B17/06 ,  C03C17/3417

Abstract: 本发明提供一种洗净后亲水性在极短的时间内达到恢复,并且,恢复的亲水性具有高的持久性的亲水性构件。在作为基体材料的玻璃板1的表面形成氧化锡(SnO2)膜2,在该氧化锡(SnO2)膜2的表面形成了作为上敷层的氧化硅(SiO2)膜3。作为玻璃板1,是以SiO2作为主要成分的钠玻璃,氧化锡膜(SnO2)2,例如,用CVD法制成,其厚度为10～800nm,表面的表面平均粗糙度(Ra)为0.5～25nm。另外,氧化硅(SiO2)膜3用溅射法制成,其厚度为0.1～100nm。然而,因氧化硅(SiO2)膜3在上述氧化锡(SnO2)膜2上形成,所以,氧化锡膜(SnO2)2的凹凸被原样转移,氧化硅(SiO2)膜3的表面的表面平均粗糙度(Ra)也是0.5～25nm。