公开(公告)号：CN1070783C

公开(公告)日：2001-09-12

申请号：CN96191531.5

申请日：1996-12-24

Applicant: 东洋油墨制造株式会社

Inventor： 木村秀一 ,  小川但 ,  坂本希

IPC: B41M5/26 ,  G11B7/24 ,  C09B47/24

CPC classification number: C09B47/085 ,  G11B7/248 ,  Y10S428/913 ,  Y10S430/146 ,  Y10T428/21

Abstract: 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度，耐光性和耐用性的光记录介质，所述介质含有含上述材料的记录层，式(1)，其中各X1-X4为氢原子，烷基，芳基，脂环残基，芳烷基，杂环，烷氧基，芳氧基或烷基硫代基，各Y1-Y4为氢原子，卤原子，硝基，邻苯二甲酰亚胺甲基或砜酰胺基，各R1和R2为氢原子，卤原子，羟基，烷基，芳基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，烷基硫代基，芳基硫代基，烷基氨基，二烷基氨基，芳基氨基或二芳基氨基，M为Al，Ga，In，Si，Ge或Sn，Z为偶氮化合物，蒽醌化合物或金属配位化合物，n1-n4为1-4的整数，m1-m4为0-4的整数，k为1或2，和l为0或1，但k+l为1或2。

公开(公告)号：CN1169128A

公开(公告)日：1997-12-31

申请号：CN96191531.5

申请日：1996-12-24

Applicant: 东洋油墨制造株式会社

Inventor： 木村秀一 ,  小川但 ,  坂本希

IPC: B41M5/26 ,  G11B7/24 ,  C09B47/24

CPC classification number: C09B47/085 ,  G11B7/248 ,  Y10S428/913 ,  Y10S430/146 ,  Y10T428/21

Abstract: 一种下式(1)的光记录材料和具有优异记录灵敏度，耐光性和耐用性的光记录介质，所述介质含有含上述材料的记录层，式(1)，其中各X1-X4为氢原子，烷基，芳基，脂环残基，芳烷基，杂环，烷氧基，芳氧基或烷基硫代基，各Y1-Y4为氢原子，卤原子，硝基，邻苯二甲酰亚胺甲基或砜酰胺基，各R1和R2为氢原子，卤原子，羟基，烷基，芳基，芳烷基，烷氧基，芳氧基，烷基硫代基，芳基硫代基，烷基氨基，二烷基氨基，芳基氨基或二芳基氨基，M为Al，Ga，In，Si，Ge或Sn，Z为偶氮化合物，蒽醌化合物或金属配位化合物，n1-n4为1-4的整数，m1-m4为0-4的整数，k为1或2，和1为0或1，但k+1为1或2。