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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1272348C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN02815908.X
申请日：2002-09-09
Applicant: 东亚合成株式会社
IPC: C08F2/46
CPC classification number: C08F2/46
Abstract: 本发明公开了水溶性聚合物的制造方法，其中，通过由含有光聚合引发剂的乙烯基系单体水溶液的上方对前述乙烯基系单体水溶液进行光照射，使前述乙烯基系单体开始聚合，同时从乙烯基系单体水溶液表面除去前述开始聚合的乙烯基系单体水溶液表面蒸发的水蒸汽。优选水蒸汽随同沿聚合物水溶液表面流动的惰性气体一起除去，或者采用使水蒸汽在聚合物上面倾斜配置的有光透过性的板的表面冷凝等的方法除去。
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公开(公告)号：CN1239519C
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN01808407.9
申请日：2001-04-19
Applicant: 东亚合成株式会社
IPC: C08F2/50
Abstract: 本发明公开了一种方法，其中将乙烯基单体的水溶液进行光聚合反应以生产具有高分子量，在水中高度可溶，且未反应单体含量下降的水溶性聚合物。该方法包括，利用一种具有10小时半衰期分解温度90℃或更低的偶氮化合物作为光聚合反应引发剂将乙烯基单体的水溶液进行光聚合反应，使得第一阶段光辐射在辐射强度0.5-7W/m2下进行且第二阶段或随后的光辐射在高于第一阶段的辐射强度下并以70,000J/m2或更大的总光量进行。
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公开(公告)号：CN1426425A
公开(公告)日：2003-06-25
申请号：CN01808407.9
申请日：2001-04-19
Applicant: 东亚合成株式会社
IPC: C08F2/50
Abstract: 本发明公开了一种方法，其中将乙烯基单体的水溶液进行光聚合反应以生产具有高分子量，在水中高度可溶，且未反应单体含量下降的水溶性聚合物。该方法包括，利用一种具有10小时半衰期分解温度90℃或更低的偶氮化合物作为光聚合反应引发剂将乙烯基单体的水溶液进行光聚合反应，使得第一阶段光辐射在辐射强度0.5－7W/m2下进行且第二阶段或随后的光辐射在高于第一阶段的辐射强度下并以70,000J/m2或更大的总光量进行。
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公开(公告)号：CN101184720A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200680018340.0
申请日：2006-06-12
Applicant: 东亚合成株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供适用于羧酸和醇等具有羟基的化合物的酯化反应，反应中污垢在内壁面的附着性得到了改善的反应装置以及使用了该反应装置的酯化物的制造方法。本发明的反应装置1是具备圆筒状容器11和配设在圆筒状容器11的外周部的冷却加热夹套12，使冷却加热夹套12的配设位置的最高点比圆筒状容器11内的反应液的液面最高点低，进行羧酸的酯化反应的反应装置，冷却加热夹套12的配设位置的最高点位于满足式0.02＜(y－x)/x＜0.3的位置[其中，x为从圆筒状容器的直筒身部下端到冷却加热夹套的配设位置的最高点的长度，y为从圆筒状容器的直筒身部下端到反应液的液面最高点的长度]。
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公开(公告)号：CN1628132A
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN02815908.X
申请日：2002-09-09
Applicant: 东亚合成株式会社
IPC: C08F2/46
CPC classification number: C08F2/46
Abstract: 本发明公开了水溶性聚合物的制造方法，其中，通过由含有光聚合引发剂的乙烯基系单体水溶液的上方对前述乙烯基系单体水溶液进行光照射，使前述乙烯基系单体开始聚合，同时从乙烯基系单体水溶液表面除去前述开始聚合的乙烯基系单体水溶液表面蒸发的水蒸汽。优选水蒸汽随同沿聚合物水溶液表面流动的惰性气体一起除去，或者采用使水蒸汽在聚合物上面倾斜配置的有光透过性的板的表面冷凝等的方法除去。
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