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公开(公告)号:CN104911706A
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201510328712.0
申请日:2015-06-15
Applicant: 上海应用技术学院
CPC classification number: C23C18/1258
Abstract: 本发明一种超快闪烁ZnO薄膜的制备方法,包括一个酸处理单晶硅片的步骤,量取浓硫酸和浓磷酸,将浓硫酸和浓磷酸混合后,加热,将单晶硅片放入其中,保持温度持续10~40min,然后自然冷却,取出单晶硅片,先采用乙醇清洗,然后采用超声波清洗,最后吹干,将上述处理后的单晶硅片作为衬底材料,采用磁控溅射薄膜沉积技术,在衬底上制备一层厚度为40~60nm的ZnO薄膜作为籽晶层,在上述ZnO籽晶层上采用超声喷雾热解法沉积ZnO薄膜,雾气输送载气为N2,沉积温度范围为370-390oC,ZnO薄膜的厚度为150-250nm。通过本发明的法得到的ZnO薄膜具有(002)择优取向特征、强紫外发射和超快闪烁性能。
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公开(公告)号:CN104911706B
公开(公告)日:2017-08-25
申请号:CN201510328712.0
申请日:2015-06-15
Applicant: 上海应用技术学院
CPC classification number: C23C18/1258
Abstract: 本发明一种超快闪烁ZnO薄膜的制备方法,包括一个酸处理单晶硅片的步骤,量取浓硫酸和浓磷酸,将浓硫酸和浓磷酸混合后,加热,将单晶硅片放入其中,保持温度持续10~40min,然后自然冷却,取出单晶硅片,先采用乙醇清洗,然后采用超声波清洗,最后吹干,将上述处理后的单晶硅片作为衬底材料,采用磁控溅射薄膜沉积技术,在衬底上制备一层厚度为40~60nm的ZnO薄膜作为籽晶层,在上述ZnO籽晶层上采用超声喷雾热解法沉积ZnO薄膜,雾气输送载气为N2,沉积温度范围为370‑390oC,ZnO薄膜的厚度为150‑250nm。通过本发明的法得到的ZnO薄膜具有(002)择优取向特征、强紫外发射和超快闪烁性能。
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公开(公告)号:CN204387765U
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201520040724.9
申请日:2015-01-21
Applicant: 上海应用技术学院
IPC: F21S2/00 , F21V19/00 , F21Y101/02
Abstract: 本实用新型涉及一种三维立体发光LED灯泡,包括灯罩、三维立体发光的LED灯丝、芯柱、导电引出线、灯头绝缘部件、驱动电源和灯头导电部件,所述灯罩的灯罩口与所述芯柱上端口形成密封的灯体;所述芯柱内设有导气管,所述芯柱伸入所述灯罩内,其上端固定一卡槽,卡槽内卡住所述三维立体发光的LED灯丝。本实用新型灯丝的封装无需包覆荧光粉,简化了工艺过程。仅需一灯丝设置在芯柱上端的卡槽上,然后通过灯体和灯头的封装,实现LED灯泡的三维立体发光,该封装具有焊点少、结构简单、封装时间短、成本低等优点。
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