轨迹测定装置、数控装置以及轨迹测定方法

    公开(公告)号:CN105814502B

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201380081410.7

    申请日:2013-12-05

    Abstract: 一种轨迹测定装置(10),其针对移动对象测定具有大于或等于3轴的可动轴的机械的移动对象(40)的移动轨迹,该轨迹测定装置(10)具有轨迹运算部,该轨迹运算部使用指令条件(C1)、指令信号(S1)以及反馈信号(S2),针对每个平面对将可动轴中的2个可动轴作为坐标轴的平面中的移动轨迹进行运算,其中,指令条件(C1)是包含可动轴间的轴间相位差在内的向移动对象(40)的指令条件,指令信号(S1)是基于轴间相位差生成的向可动轴的指令信号,反馈信号(S2)表示以使可动轴的位置追随指令信号(S1)的方式对可动轴进行了反馈控制时的可动轴的位置。

    控制参数调整装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109257940A

    公开(公告)日:2019-01-22

    申请号:CN201780003858.5

    申请日:2017-05-15

    Abstract: 本发明所涉及的控制参数调整装置(1a)对伺服控制部(3)及指令值生成部(4)的控制参数进行调整,该伺服控制部(3)及指令值生成部(4)进行具有驱动轴的机械装置(5)的控制,该控制参数调整装置(1a)具有:参数输入部(11),其接收对机械装置(5)的特性赋予特征的设计参数的输入;调整功能选择部(12),其基于接收到的设计参数,从与伺服控制部(3)及指令值生成部(4)所具有的功能相对应的控制参数中对设为调整对象的控制参数进行选择;以及调整执行部(13),其执行通过调整功能选择部(12)选择出的控制参数的调整。

    功率半导体元件的驱动电路

    公开(公告)号:CN105324923A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201380077680.0

    申请日:2013-06-24

    Abstract: 具有:电压指令生成部(2),其生成向功率半导体元件(1)的栅极端子-发射极端子间的充电指令、即电压指令(VGEref);减法器(3),其对电压指令(VGEref)和功率半导体元件(1)的栅极端子-发射极端子间电压之间的偏差电压(Verr)进行计算;栅极电流控制器(4),其被输入偏差电压(Verr),对栅极电流指令电压(VIGref)进行计算,其中,该栅极电流指令电压(VIGref)决定流过功率半导体元件(1)的栅极端子的栅极电流;栅极电流指令限制器(19),其对栅极电流指令电压(VIGref)进行限制;以及栅极电流供给器,其被输入栅极电流指令限制器(19)的输出、即实际栅极电流指令电压(VIGout),将栅极电流供给至功率半导体元件(1)的栅极端子。

    功率半导体元件的驱动电路

    公开(公告)号:CN105324923B

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201380077680.0

    申请日:2013-06-24

    Abstract: 具有:电压指令生成部(2),其生成向功率半导体元件(1)的栅极端子-发射极端子间的充电指令、即电压指令(VGEref);减法器(3),其对电压指令(VGEref)和功率半导体元件(1)的栅极端子-发射极端子间电压之间的偏差电压(Verr)进行计算;栅极电流控制器(4),其被输入偏差电压(Verr),对栅极电流指令电压(VIGref)进行计算,其中,该栅极电流指令电压(VIGref)决定流过功率半导体元件(1)的栅极端子的栅极电流;栅极电流指令限制器(19),其对栅极电流指令电压(VIGref)进行限制;以及栅极电流供给器,其被输入栅极电流指令限制器(19)的输出、即实际栅极电流指令电压(VIGout),将栅极电流供给至功率半导体元件(1)的栅极端子。

    频率响应测定装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105247432B

    公开(公告)日:2017-06-09

    申请号:CN201380076906.5

    申请日:2013-06-03

    CPC classification number: G01H1/003 G05B19/4062

    Abstract: 实施方式的频率响应测定装置测定对机械系统进行反馈控制的伺服系统的频率响应,在该频率响应测定装置中具有:激振条件设定部,其对多个不同的激振条件进行设定;激振执行部,其利用所述不同的激振条件的激振信号,对所述伺服系统执行多次激振;以及频率响应运算部,其从进行了所述多次激振的所述伺服系统的控制系统中,针对所述多次激振中的每一次激振,获取识别输入信号和识别输出信号的组,基于所述多次激振中的每一次激振的所述激振条件以及所述识别输入信号和所述识别输出信号的组,对所述频率响应进行运算。

    频率响应测定装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105247432A

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201380076906.5

    申请日:2013-06-03

    CPC classification number: G01H1/003 G05B19/4062

    Abstract: 实施方式的频率响应测定装置测定对机械系统进行反馈控制的伺服系统的频率响应,在该频率响应测定装置中具有:激振条件设定部,其对多个不同的激振条件进行设定;激振执行部,其利用所述不同的激振条件的激振信号,对所述伺服系统执行多次激振;以及频率响应运算部,其从进行了所述多次激振的所述伺服系统的控制系统中,针对所述多次激振中的每一次激振,获取识别输入信号和识别输出信号的组,基于所述多次激振中的每一次激振的所述激振条件以及所述识别输入信号和所述识别输出信号的组,对所述频率响应进行运算。

    轨迹测定装置、数控装置以及轨迹测定方法

    公开(公告)号:CN105814502A

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201380081410.7

    申请日:2013-12-05

    Abstract: 一种轨迹测定装置(10),其针对移动对象测定具有大于或等于3轴的可动轴的机械的移动对象(40)的移动轨迹,该轨迹测定装置(10)具有轨迹运算部,该轨迹运算部使用指令条件(C1)、指令信号(S1)以及反馈信号(S2),针对每个平面对将可动轴中的2个可动轴作为坐标轴的平面中的移动轨迹进行运算,其中,指令条件(C1)是包含可动轴间的轴间相位差在内的向移动对象(40)的指令条件,指令信号(S1)是基于轴间相位差生成的向可动轴的指令信号,反馈信号(S2)表示以使可动轴的位置追随指令信号(S1)的方式对可动轴进行了反馈控制时的可动轴的位置。

    数控装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104272205B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201280072755.1

    申请日:2012-05-09

    Abstract: 一种数控装置,其具有:加工程序解析部,其对具有加工形状指令的加工程序进行解析,输出标记指示,其中,该加工形状指令带有标识或者特定的程序指令;延迟器,其按照直至得到表示以所述加工形状指令为基础的所述工作机械的动作结果的反馈数据为止的时间,对所述标记指示进行延迟;以及反馈数据输出部,其在检测到所述反馈数据以及被延迟的标记指示的情况下,针对所述反馈数据,进行与所述加工形状指令所带有的标识或者特定的程序指令相对应的标记,并输出。

Patent Agency Ranking