公开(公告)号：CN1131285A

公开(公告)日：1996-09-18

申请号：CN95118314.1

申请日：1995-10-31

Applicant: 三田工业株式会社

Inventor： 辻田充司 ,  田中作白 ,  寺田幸史 ,  寺田卓司 ,  山里一郎 ,  宫本荣一

IPC: G03G15/06

CPC classification number: G03G13/22 ,  G03G15/065

Abstract: 一种电子照像方法，其中，施加显影偏压将光敏材料上的静电潜影，显影所述偏压与光敏材料的电荷极性相同，该显影偏压值高于光衰减特性曲线中，接近大曝光量区之曲线与接近小曝光量区之曲线相交之点的相应电势。

公开(公告)号：CN1144919A

公开(公告)日：1997-03-12

申请号：CN95106310.3

申请日：1995-05-31

Applicant: 三田工业株式会社

Inventor： 辻田充司 ,  田中作白 ,  田中裕二 ,  寺田幸史 ,  寺田卓司

IPC: G03G15/02

CPC classification number: G03G15/5037 ,  G03G15/0266

Abstract: 本发明成像装置由下列构件组成：包括可旋转的感光构件；充电器件；电荷去除器件；光辐射装置用于辐射光到处于由充电器件充电状态下的感光膜层的充电区域，并用于调节所辐射的光量；曝光器件；显影器件；变化量检测器件，用于检测感光膜层的充电电势和感光膜层灵敏度其中至少一个的变化量；以及补偿装置，由光辐射器件根据变化量检测器件所测得的结果，通过调整向充电区域所辐射的光量来补偿变化量。