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公开(公告)号：CN1278605A
公开(公告)日：2001-01-03
申请号：CN00118774.0
申请日：2000-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B6/35
CPC classification number: G02F1/3137 , G02F1/011 , G02F1/0147 , G02F2001/0113
Abstract: 公开了一种使用小的驱动功率而同时耦合到光纤造成的耦合损失呈现出减小的、切换速度为几百微秒或更短的热光开关及其制造方法和利用它更换光学线路的方法,热光开关包括:基片;下包层,它具有在与输入端子对应的区域形成并适合于把连接到输入端子的光纤所输入的圆模式转换成具有肋形的椭圆模式的输入锥体和与输出端子对应的区域形成并适合于把椭圆模式转换成可以输入到与输出端子连接的光纤的圆模式的输出锥体;芯层;上包层;以及切换电极。
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公开(公告)号：CN1236339C
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN00118774.0
申请日：2000-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B6/35
CPC classification number: G02F1/3137 , G02F1/011 , G02F1/0147 , G02F2001/0113
Abstract: 公开了一种使用小的驱动功率而同时耦合到光纤造成的耦合损失呈现出减小的、切换速度为几百微秒或更短的热光开关及其制造方法和利用它更换光学线路的方法。热光开关包括：基片；下包层，它具有在与输入端子对应的区域形成并适合于把连接到输入端子的光纤所输入的圆模式转换成具有肋形的椭圆模式的输入锥体和在与输出端子对应的区域形成并适合于把椭圆模式转换成可以输入到与输出端子连接的光纤的圆模式的输出锥体；芯层；上包层；以及切换电极。
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公开(公告)号：CN1122187C
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN98124415.7
申请日：1998-10-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B6/10
CPC classification number: C03C17/02 , C03C17/3411 , C03C2218/33 , G02B6/136 , G02B2006/1215
Abstract: 一种在一个腔室里制作平面光波导的方法，包括的步骤是：在基片上沉积一包覆层和一核心层，在核心层上沉积一腐蚀掩膜层，并在腐蚀遮挡层上形成光刻胶图案，依照光刻胶图案，使用第一种气体，形成腐蚀掩膜图案，并除去第一种气体。根据腐蚀掩膜图案使用第二种气体，通过对核心层腐蚀形成光波导，使用第一种气体除去腐蚀掩膜图案然后在上述步骤的最终结构上沉积与核心层相同材料的顶层包覆层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1115573C
公开(公告)日：2003-07-23
申请号：CN00105874.6
申请日：2000-04-17
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , C08G73/10 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , G02B1/046 , G02B1/048 , Y10T428/23 , Y10T428/24942 , C08L79/08
Abstract: 一种光波导管，包括由一种聚合物形成的核芯层，和与该核芯层邻近的外包层，该外包层是由这样一种聚合物形成的，这种聚合物的折射率小于核芯层的聚合物的折射率，其中用于核芯层和外包层的聚合物选自具有式(1)的共聚物，其中X为(2)或者(3)Y为(4)或者(5)n是数值范围为0.05≤n＜1的摩尔比率。因而，通过在形成光波导管中使用容易控制折射率的聚酰亚胺，光波导管的核芯层和外包层之间的折射率差异与使用硅的情况相比可被进一步提高。结果可制造用于光通信的亚小型钝态装置。
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公开(公告)号：CN1122186C
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN98810616.7
申请日：1998-11-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B6/1221
Abstract: 一种聚合物光波导器件及其制造方法，该聚合物光波导器件含有一种由聚合物形成的核芯，该聚合物基于聚合物的总重量含有12-37%(重量)的氟化物(F)，并且具有至少两个-C(＝O)-N-C(＝O)功能基团或至少四个-N-C(＝O)-功能基团的重复单元；和一个与该核芯接触的并且由聚合物形成的外包层，该聚合物的折射率低于形成核芯的聚合物的折射率。本发明的光波导器件可降低光散射损失。本发明的制造聚合物光波导器件的方法可用于聚合物光波导器件的大量生产。
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公开(公告)号：CN1277677A
公开(公告)日：2000-12-20
申请号：CN98810616.7
申请日：1998-11-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B6/1221
Abstract: 一种聚合物光波导管及其制造方法,该聚合物光波导管含有一种由聚合物形成的核芯,该聚合物基于聚合物的总重量含有12—37%(重量)的氟化物(F),并且具有至少两个－C(=O)－N－C(=O)功能基团或至少四个－N－C(=O)－功能基团的重复单元;和一个与该核芯接触的并且由聚合物形成的外包层,该聚合物的折射率低于形成核芯的聚合物的折射率。本发明的光波导管可降低光散射损失。本发明的制造聚合物光波导管的方法可用于聚合物光波导管的大量生产。
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公开(公告)号：CN1271104A
公开(公告)日：2000-10-25
申请号：CN00105874.6
申请日：2000-04-17
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , C08G73/10 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , G02B1/046 , G02B1/048 , Y10T428/23 , Y10T428/24942 , C08L79/08
Abstract: 一种光波导管,包括由一种聚合物形成的核心层,和与该核心层邻近的外包层,该外包层是由这样一种聚合物形成的,这种聚合物的折射率小于核心层的聚合物的折射率,其中用于核心和外包层的聚合物选自具有式(1)的共聚物，n是数值范围为0.05≤n
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公开(公告)号：CN1218189A
公开(公告)日：1999-06-02
申请号：CN98124415.7
申请日：1998-10-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B6/10
CPC classification number: C03C17/02 , C03C17/3411 , C03C2218/33 , G02B6/136 , G02B2006/1215
Abstract: 一种在一个腔室里制作平面光波导的方法,包括的步骤是:在基片上沉积一包覆层和一核心层,在核心层上沉积一腐蚀掩膜层,并在腐蚀遮挡层上形成光刻胶图案,依照光刻胶图案,使用第一种气体,形成腐蚀掩膜图案,并除去第一种气体。根据腐蚀掩膜图案使用第二种气体,通过对核心层腐蚀形成光波导,使用第一种气体除去腐蚀掩膜图案然后在上述步骤的最终结构上沉积与核心层相同材料的顶层包覆层。
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