公开(公告)号：CN104745972B

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201410834174.8

申请日：2014-12-26

Applicant: 井上明久 ,  株式会社真壁技研 ,  株式会社BMG

Inventor： 井上明久 ,  孔凡利 ,  常春涛 ,  真壁英一

IPC: C22C45/02

Abstract: 本发明的课题为，提供一种在高浓度铁基合金组成范围内具有相当高的玻璃形成能力，具有1.60T以上的高饱和磁通密度、低矫顽力、高有效磁导率、以及良好的非晶形成能力和优越的机械强度和延展性、加工性的高磁通密度软磁铁基非晶合金。通过以下特征以解决上述课题，含有作为合金元素的铁、硼、硅以及磷，合金组成表示为FeaBbSicPd，当a、b、c、d为原子百分比时，a、b、c以及d满足下式：81≦a≦87、7≦b≦10、0﹤d≦c﹤c+d﹤b、a+b+c+d≦100，饱和磁通密度在1.60T以上。

公开(公告)号：CN104745972A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201410834174.8

申请日：2014-12-26

Applicant: 井上明久 ,  株式会社真壁技研 ,  株式会社BMG

Inventor： 井上明久 ,  孔凡利 ,  常春涛 ,  真壁英一

IPC: C22C45/02

Abstract: 本发明的课题为，提供一种在高浓度铁基合金组成范围内具有相当高的玻璃形成能力，具有1.60T以上的高饱和磁通密度、低矫顽力、高有效磁导率、以及良好的非晶形成能力和优越的机械强度和延展性、加工性的高磁通密度软磁铁基非晶合金。通过以下特征以解决上述课题，含有作为合金元素的铁、硼、硅以及磷，合金组成表示为FeaBbSicPd，当a、b、c、d为原子百分比时，a、b、c以及d满足下式：81≦a≦87、7≦b≦10、0﹤d≦c﹤c+d﹤b、a+b+c+d≦100，饱和磁通密度在1.60T以上。

公开(公告)号：CN101568669A

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200780048152.7

申请日：2007-03-13

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  爱德有限公司 ,  日本碍子株式会社 ,  株式会社真壁技研

Inventor： 王新敏 ,  村松尚国 ,  木内淳介 ,  铃木宽 ,  荒川达锐 ,  木村久道 ,  井上明久 ,  真壁英一

IPC: C23G1/02 ,  C23C14/02 ,  C23C18/18 ,  C23F1/16 ,  C25D5/34

CPC classification number: C23G1/02 ,  C23C18/165 ,  C23C18/1844 ,  C23C18/31 ,  C23G1/086 ,  C23G1/10 ,  C23G1/103 ,  C23G1/106 ,  C25D5/34 ,  C25D5/36 ,  C25D5/38 ,  C25D5/40 ,  C25D5/48 ,  C25D5/54

Abstract: 本发明提供一种具有膜的耐久性与彩色性兼备的表面层的金属玻璃部件及该表面层的形成方法。使金属玻璃部件(10)的表面与硝酸和氢氟酸的混合水溶液(18)反应，进行氧化膜(12)的去除的同时，进行在金属玻璃部件(10)的表面准备锚合形状(14)的表面活性处理，然后，通过进行电镀或非电解镀在金属玻璃部件(10)的表面形成镀膜(16)。借此，可以形成耐久性及彩色性兼备的金属玻璃表面层。