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发明授权
US09405195B2 Method to define multiple layer patterns with a single exposure by charged particle beam lithography 有权
通过带电粒子束光刻法单次曝光来定义多层图案的方法

Method to define multiple layer patterns with a single exposure by charged particle beam lithography
摘要：
The present disclosure provides a method that includes forming a first patternable material layer on a substrate; forming a second patternable material layer over the first patternable material layer; and performing a charged particle beam lithography exposure process to the first patternable material layer and the second patternable material layer, thereby forming a first latent feature in the first patternable material layer and a second latent feature in the second patternable material layer.
摘要（中）：

本公开提供了一种方法，其包括在基底上形成第一图案化材料层; 在所述第一图案化材料层上形成第二图案化材料层; 对所述第一图案化材料层和所述第二图案化材料层进行带电粒子束光刻曝光处理，从而在所述第一图案化材料层中形成第一潜像，在所述第二图案化材料层中形成第二潜在特征。

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