发明授权
- 专利标题： Salt and photoresist composition containing the same
- 专利标题（中）： 含有其的盐和光致抗蚀剂组合物
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申请号： US12797459申请日： 2010-06-09
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公开(公告)号： US09221785B2公开(公告)日： 2015-12-29
- 发明人: Koji Ichikawa , Masako Sugihara , Masahiko Shimada
- 申请人： Koji Ichikawa , Masako Sugihara , Masahiko Shimada
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
- 优先权： JP2009-140957 20090612
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/38 ; C07D317/12 ; C07D317/16 ; C07D317/24 ; C07D319/02 ; C07D319/12 ; C07D321/02 ; C07D327/04 ; C07D327/06 ; C07D339/02 ; C07D339/06 ; C07D339/08 ; C07C381/12 ; C07C309/17 ; G03F7/039
摘要：
A salt having a group represented by the formula (I): -T (I) wherein T represents a C3-C36 alicyclic hydrocarbon group in which at least two methylene groups are replaced by —O— or —S— and which can have one or more substituents.
公开/授权文献
- US20100316951A1 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 公开/授权日：2010-12-16
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